EXTREMELY LOW RESISTIVITY ERBIUM OHMIC CONTACTS TO N-TYPE SILICON

被引:38
作者
JANEGA, PL
MCCAFFREY, J
LANDHEER, D
机构
关键词
D O I
10.1063/1.101611
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
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页码:1415 / 1417
页数:3
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