PLASMA-ETCHING OF SPUTTERED MO AND MOSI2 THIN-FILMS IN NF3 GAS-MIXTURES

被引:30
作者
CHOW, TP [1 ]
STECKL, AJ [1 ]
机构
[1] RENSSELAER POLYTECH INST, CTR INTEGRATED ELECTR, TROY, NY 12181 USA
关键词
D O I
10.1063/1.331488
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:5531 / 5540
页数:10
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