RADICAL BEAM ION-BEAM ETCHING OF GAAS

被引:25
作者
SKIDMORE, JA [1 ]
COLDREN, LA [1 ]
HU, EL [1 ]
MERZ, JL [1 ]
ASAKAWA, K [1 ]
机构
[1] NEC CORP, MIYAMAE KU, KAWASAKI, KANAGAWA 213, JAPAN
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 06期
关键词
D O I
10.1116/1.584194
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
收藏
页码:1885 / 1888
页数:4
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