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DISLOCATION MICROSTRUCTURES ON FLAT AND STEPPED SI SURFACES - GUIDANCE FOR GROWING HIGH-QUALITY GAAS ON (100) SI SUBSTRATES
被引:31
作者
:
LO, YH
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机构:
UNIV CALIF BERKELEY,DEPT ELECT ENGN & COMP SCI,BERKELEY,CA 94720
LO, YH
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机构
:
[1]
UNIV CALIF BERKELEY,DEPT ELECT ENGN & COMP SCI,BERKELEY,CA 94720
[2]
UNIV CALIF BERKELEY,ELECTR RES LAB,BERKELEY,CA 94720
[3]
UNIV CALIF BERKELEY LAWRENCE BERKELEY LAB,BERKELEY,CA 94720
来源
:
APPLIED PHYSICS LETTERS
|
1988年
/ 52卷
/ 17期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.99124
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
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FORMATION OF THE INTERFACE BETWEEN GAAS AND SI - IMPLICATIONS FOR GAAS-ON-SI HETEROEPITAXY
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EFFECT OF INSITU AND EXSITU ANNEALING ON DISLOCATIONS IN GAAS ON SI SUBSTRATES
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[1]
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LO YH, 1987, MATERIALS RES SOC S
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[6]
HIGH-RESOLUTION ELECTRON-MICROSCOPY OF MISFIT DISLOCATIONS IN THE GAAS/SI EPITAXIAL INTERFACE
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