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半导体装置及半导体装置的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201880016444.0
申请日
:
2018-02-28
公开(公告)号
:
CN110678989B
公开(公告)日
:
2024-02-13
发明(设计)人
:
山崎舜平
竹内敏彦
山出直人
藤木宽士
森若智昭
木村俊介
申请人
:
株式会社半导体能源研究所
申请人地址
:
日本神奈川县厚木市
IPC主分类号
:
H01L29/786
IPC分类号
:
H01L21/28
H10B12/00
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
张桂霞;李志强
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-02-13
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
泽井宽美
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泽井宽美
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德丸亮
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德丸亮
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竹内敏彦
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竹内敏彦
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村川努
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村川努
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永松翔
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永松翔
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森若智昭
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森若智昭
.
中国专利
:CN111448669A
,2020-07-24
[2]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
村川努
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村川努
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安藤善范
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安藤善范
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掛端哲弥
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掛端哲弥
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佐藤优一
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佐藤优一
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方堂凉太
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方堂凉太
.
中国专利
:CN113795928A
,2021-12-14
[3]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
半田拓哉
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半田拓哉
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保坂泰靖
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保坂泰靖
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三本菅正太
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三本菅正太
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山根靖正
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山根靖正
;
冈崎健一
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冈崎健一
.
中国专利
:CN111418073A
,2020-07-14
[4]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山崎舜平
;
冈崎健一
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株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
冈崎健一
;
及川欣聪
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
及川欣聪
.
日本专利
:CN118352399A
,2024-07-16
[5]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山崎舜平
;
和久田真弘
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机构:
株式会社半导体能源研究所
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和久田真弘
;
山出直人
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株式会社半导体能源研究所
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山出直人
;
村川努
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株式会社半导体能源研究所
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村川努
;
国武宽司
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株式会社半导体能源研究所
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国武宽司
;
中山智则
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
中山智则
.
日本专利
:CN121014275A
,2025-11-25
[6]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
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竹内敏彦
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竹内敏彦
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山出直人
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山出直人
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藤木宽士
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藤木宽士
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森若智昭
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森若智昭
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木村俊介
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木村俊介
.
中国专利
:CN110678989A
,2020-01-10
[7]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
笹川慎也
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笹川慎也
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方堂凉太
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方堂凉太
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森若智昭
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森若智昭
.
中国专利
:CN114930547A
,2022-08-19
[8]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
山崎舜平
;
松林大介
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机构:
株式会社半导体能源研究所
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松林大介
;
浅见良信
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
浅见良信
.
日本专利
:CN110998808B
,2024-04-30
[9]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
.
中国专利
:CN110731013A
,2020-01-24
[10]
半导体装置及半导体装置的制造方法
[P].
柳泽悠一
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
柳泽悠一
;
方堂凉太
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
方堂凉太
;
冈本悟
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机构:
株式会社半导体能源研究所
株式会社半导体能源研究所
冈本悟
.
日本专利
:CN113491006B
,2025-09-23
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