基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311391987.X

申请日：

2023-10-25

公开(公告)号：

CN117930592A

公开(公告)日：

2024-04-26

发明(设计)人：

李寅载裵城庸尹大根崔仁镐金圣协金宜信金桢吉南艺彬李东镇李钟俱郑都铉郑东植

申请人：

三星电子株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

H01L21/67

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

屈玉华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-08-15	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20231025
2024-04-26	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

金光洙 .

中国专利 :CN104128292A ,2014-11-05

[2]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

田端雅弘 .

中国专利 :CN110616416A ,2019-12-27

[3]

基板处理装置 [P].

木下繁 ;

松本州作 ;

川野浩一郎 ;

藤田博 ;

北村嘉教 .

日本专利 :CN112868090B ,2024-09-24

[4]

基板处理装置 [P].

木下繁 ;

松本州作 ;

川野浩一郎 ;

藤田博 ;

北村嘉教 .

中国专利 :CN112868090A ,2021-05-28

[5]

基板处理装置 [P].

水越正孝 ;

石月义克 ;

中川香苗 ;

冈本圭史郎 ;

手代木和雄 ;

酒井泰治 .

中国专利 :CN102044413B ,2011-05-04

[6]

回流处理单元及基板处理装置 [P].

张健 .

中国专利 :CN104347462B ,2015-02-11

[7]

回流处理单元及基板处理装置 [P].

张健 .

中国专利 :CN104347452B ,2015-02-11

[8]

处理基板的装置和方法 [P].

张健 .

中国专利 :CN104347453A ,2015-02-11

[9]

半导体基板的处理装置 [P].

吕维伦 ;

郭光扬 ;

陈皇宇 ;

王建竣 ;

白玉磐 .

中国专利 :CN108615787A ,2018-10-02

[10]

半导体基板的处理方法和半导体基板的处理装置 [P].

清田健司 ;

福冈哲夫 .

中国专利 :CN110199379A ,2019-09-03

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