基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010526085.9

申请日：

2003-04-22

公开(公告)号：

CN102044413B

公开(公告)日：

2011-05-04

发明(设计)人：

水越正孝石月义克中川香苗冈本圭史郎手代木和雄酒井泰治

申请人：

申请人地址：

日本国神奈川县川崎市

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L2160 H01L2148

代理机构：

隆天国际知识产权代理有限公司 72003

代理人：

浦柏明;徐恕

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-06-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101080108045 IPC(主分类):H01L 21/00 专利申请号:2010105260859 申请日:20030422
2021-04-09	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20030422 授权公告日:20121121 终止日期:20200422
2012-11-21	授权	授权
2011-05-04	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体器件及其制法、基板处理装置和半导体制造装置 [P].

水越正孝 ;

石月义克 ;

中川香苗 ;

冈本圭史郎 ;

手代木和雄 ;

酒井泰治 .

中国专利 :CN101483144B ,2009-07-15

[2]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

金光洙 .

中国专利 :CN104128292A ,2014-11-05

[3]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

田端雅弘 .

中国专利 :CN110616416A ,2019-12-27

[4]

基板处理装置 [P].

李寅载 ;

裵城庸 ;

尹大根 ;

崔仁镐 ;

金圣协 ;

金宜信 ;

金桢吉 ;

南艺彬 ;

李东镇 ;

李钟俱 ;

郑都铉 ;

郑东植 .

韩国专利 :CN117930592A ,2024-04-26

[5]

基板处理装置 [P].

木下繁 ;

松本州作 ;

川野浩一郎 ;

藤田博 ;

北村嘉教 .

日本专利 :CN112868090B ,2024-09-24

[6]

基板处理装置 [P].

木下繁 ;

松本州作 ;

川野浩一郎 ;

藤田博 ;

北村嘉教 .

中国专利 :CN112868090A ,2021-05-28

[7]

凸块形成方法、半导体器件及其制造方法、基板处理装置和半导体制造装置 [P].

水越正孝 ;

石月义克 ;

中川香苗 ;

冈本圭史郎 ;

手代木和雄 ;

酒井泰治 .

中国专利 :CN100477139C ,2005-10-19

[8]

回流处理单元及基板处理装置 [P].

张健 .

中国专利 :CN104347462B ,2015-02-11

[9]

回流处理单元及基板处理装置 [P].

张健 .

中国专利 :CN104347452B ,2015-02-11

[10]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

小林信雄 ;

樋口晃一 ;

黑川祯明 ;

荒井隆史 .

中国专利 :CN101009206B ,2007-08-01

← 1 2 3 4 5 →