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晶圆抛光系统、晶圆抛光方法以及晶圆抛光控制系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311635587.9
申请日：
2023-12-01
公开(公告)号：
CN117415723A
公开(公告)日：
2024-01-19
发明(设计)人：
路新春
王同庆
王春龙
张美洁
申请人：
华海清科股份有限公司
申请人地址：
300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴道11号
IPC主分类号：
B24B37/10
IPC分类号：
B24B37/11
B24B57/02
B24B51/00
代理机构：
代理人：
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
天津市
市辖区
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-02-06 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/10申请日:20231201 |
| 2024-01-19 | 公开 | 公开 |