晶圆抛光方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911348422.7
申请日
2019-12-24
公开(公告)号
CN110919467A
公开(公告)日
2020-03-27
发明(设计)人
李振华 刘会红
申请人
申请人地址
518000 广东省深圳市南山区桃源街道同富裕工业城4号厂房1楼、2楼、4楼、6楼
IPC主分类号
B24B100
IPC分类号
代理机构
深圳市博锐专利事务所 44275
代理人
张鹏
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
晶圆抛光装置、晶圆抛光系统以及晶圆抛光方法 [P]. 
王同庆 ;
王春龙 ;
张美洁 .
中国专利 :CN117464552A ,2024-01-30
[2]
晶圆抛光方法 [P]. 
代迎伟 ;
金一诺 ;
王坚 ;
王晖 .
中国专利 :CN107433517A ,2017-12-05
[3]
晶圆抛光系统、晶圆抛光方法以及晶圆抛光控制系统 [P]. 
路新春 ;
王同庆 ;
王春龙 ;
张美洁 .
中国专利 :CN117415723A ,2024-01-19
[4]
一种晶圆抛光方法 [P]. 
张黎欢 ;
沈思情 ;
孙强 ;
柏友荣 ;
张俊宝 ;
陈猛 .
中国专利 :CN109352513B ,2019-02-19
[5]
晶圆抛光液、晶圆抛光方法和晶圆抛光装置 [P]. 
易德福 ;
丁勇 ;
吴城 .
中国专利 :CN118496766A ,2024-08-16
[6]
抛光垫与晶圆抛光方法 [P]. 
后藤崇将 ;
岸本正俊 ;
服部贵俊 ;
昌子沙里 .
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[7]
晶圆抛光装置及晶圆抛光方法 [P]. 
杨玉凯 .
中国专利 :CN115431167A ,2022-12-06
[8]
晶圆抛光装置及抛光方法 [P]. 
具滋贤 ;
张月 ;
杨涛 ;
卢一泓 ;
田光辉 .
中国专利 :CN114851057A ,2022-08-05
[9]
抛光垫与晶圆抛光方法 [P]. 
后藤崇将 ;
岸本正俊 ;
服部贵俊 ;
昌子沙里 .
日本专利 :CN118578276A ,2024-09-03
[10]
晶圆抛光方法 [P]. 
西谷隆志 ;
谷本龙一 .
中国专利 :CN108475627B ,2018-08-31