５族金属化合物、その製造方法、それを含む膜蒸着用前駆体組成物、及びそれを用いる膜の蒸着方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20190511918

申请日：

2017-08-23

公开(公告)号：

JP6803460B2

公开(公告)日：

2020-12-23

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07F9/00

IPC分类号：

C23C16/40

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共 50 条

[1]

５族金属化合物、その製造方法、それを含む膜蒸着用前駆体組成物、及びそれを用いる膜の蒸着方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019534245A ,2019-11-28

[2]

４族金属元素含有化合物、この製造方法、これを含む膜蒸着用前駆体組成物、及びこれを利用する膜の蒸着方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018521996A ,2018-08-09

[3]

４族金属元素含有化合物、この製造方法、これを含む膜蒸着用前駆体組成物、及びこれを利用する膜の蒸着方法[ja] [P].

日本专利 :JP6421258B2 ,2018-11-07

[4]

金属化合物を含む薄膜蒸着用組成物、それを用いた金属含有薄膜の製造方法、およびそれを用いて製造された金属含有薄膜[ja] [P].

日本专利 :JP2025529153A ,2025-09-04

[5]

新規ルテニウム化合物、その製造方法、これを含む膜蒸着用前駆体組成物、及びこれを利用した膜の蒸着方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017524729A ,2017-08-31

[6]

新規ルテニウム化合物、その製造方法、これを含む膜蒸着用前駆体組成物、及びこれを利用した膜の蒸着方法[ja] [P].

日本专利 :JP6284682B2 ,2018-02-28

[7]

第４族金属元素含有化合物、その製造方法、それを含む膜形成用前駆体組成物、及びそれを利用する膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021512901A ,2021-05-20

[8]

第４族金属元素含有化合物、その製造方法、それを含む膜形成用前駆体組成物、及びそれを利用する膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7329256B2 ,2023-08-18

[9]

有機金属化合物、有機金属化合物を含む薄膜蒸着用組成物、薄膜蒸着用組成物を用いた薄膜の製造方法、薄膜蒸着用組成物から製造される薄膜、および薄膜を含む半導体素子[ja] [P].

日本专利 :JP7048710B2 ,2022-04-05

[10]

第４族金属元素含有アルコキシ化合物、この製造方法、これを含む膜蒸着用前駆体組成物、及びこれを利用する膜の蒸着方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019523749A ,2019-08-29

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