学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
セラミック配線基板およびセラミック配線基板の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160558411
申请日
:
2016-04-15
公开(公告)号
:
JPWO2016167355A1
公开(公告)日
:
2017-04-27
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H05K1/11
IPC分类号
:
H05K3/40
H05K3/46
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
セラミックス組成物及びセラミックス配線基板[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004076380A1
,2006-06-01
[2]
低温焼結セラミック材料およびセラミック基板[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010079696A1
,2012-06-21
[3]
低温焼結セラミック材料およびセラミック基板[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010092969A1
,2012-08-16
[4]
セラミック粉末、及びセラミック粉末の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007119653A1
,2009-08-27
[5]
ガラスセラミック基板およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012132762A1
,2014-07-28
[6]
多層セラミック基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013001973A1
,2015-02-23
[7]
セラミック電子部品およびセラミック電子部品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017163931A1
,2019-03-07
[8]
多層セラミック基板[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017187753A1
,2019-02-14
[9]
セラミック電子部品及びセラミック電子部品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017187848A1
,2019-02-21
[10]
酸化物系セラミックス回路基板の製造方法および酸化物系セラミックス回路基板[ja]
[P].
日本专利
:JP5908473B2
,2016-04-26
←
1
2
3
4
5
→