セラミック配線基板およびセラミック配線基板の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20160558411
申请日
2016-04-15
公开(公告)号
JPWO2016167355A1
公开(公告)日
2017-04-27
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H05K1/11
IPC分类号
H05K3/40 H05K3/46
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
セラミックス組成物及びセラミックス配線基板[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2004076380A1 ,2006-06-01
[2]
低温焼結セラミック材料およびセラミック基板[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010079696A1 ,2012-06-21
[3]
低温焼結セラミック材料およびセラミック基板[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010092969A1 ,2012-08-16
[4]
セラミック粉末、及びセラミック粉末の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007119653A1 ,2009-08-27
[5]
ガラスセラミック基板およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012132762A1 ,2014-07-28
[6]
多層セラミック基板の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013001973A1 ,2015-02-23
[8]
多層セラミック基板[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017187753A1 ,2019-02-14