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半导体结构及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201510377832.X
申请日
:
2015-07-01
公开(公告)号
:
CN106328650A
公开(公告)日
:
2017-01-11
发明(设计)人
:
李勇
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
:
H01L27092
IPC分类号
:
H01L218238
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
吴敏
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-02-08
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101702040837 IPC(主分类):H01L 27/092 专利申请号:201510377832X 申请日:20150701
2017-01-11
公开
公开
2020-03-10
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法
[P].
周飞
论文数:
0
引用数:
0
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0
周飞
.
中国专利
:CN111293118A
,2020-06-16
[2]
半导体结构及其形成方法
[P].
徐建华
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0
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0
徐建华
;
王安妮
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王安妮
;
何*
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0
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何*
;
杨小军
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0
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0
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0
杨小军
.
中国专利
:CN108155235A
,2018-06-12
[3]
半导体结构及其形成方法
[P].
田震
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0
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田震
;
董耀旗
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董耀旗
;
黄达
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0
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黄达
.
中国专利
:CN115117057A
,2022-09-27
[4]
半导体结构及其形成方法
[P].
张丽杰
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0
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0
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0
张丽杰
.
中国专利
:CN109037306A
,2018-12-18
[5]
半导体结构及其形成方法
[P].
林静
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林静
;
禹国宾
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0
禹国宾
.
中国专利
:CN107180750A
,2017-09-19
[6]
半导体结构及其形成方法
[P].
徐建华
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0
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0
徐建华
.
中国专利
:CN108074815B
,2018-05-25
[7]
半导体结构及其形成方法
[P].
李勇
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0
李勇
.
中国专利
:CN110400746B
,2019-11-01
[8]
半导体结构及其形成方法
[P].
李勇
论文数:
0
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0
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0
李勇
.
中国专利
:CN108122852B
,2018-06-05
[9]
半导体结构及其形成方法
[P].
邓浩
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邓浩
;
徐建华
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徐建华
.
中国专利
:CN109285879A
,2019-01-29
[10]
半导体结构及其形成方法
[P].
韩秋华
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韩秋华
;
吴端毅
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吴端毅
.
中国专利
:CN109285811B
,2019-01-29
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