半导体结构及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510377832.X
申请日
2015-07-01
公开(公告)号
CN106328650A
公开(公告)日
2017-01-11
发明(设计)人
李勇
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L27092
IPC分类号
H01L218238
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
吴敏
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN111293118A ,2020-06-16
[2]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
徐建华 ;
王安妮 ;
何* ;
杨小军 .
中国专利 :CN108155235A ,2018-06-12
[3]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
田震 ;
董耀旗 ;
黄达 .
中国专利 :CN115117057A ,2022-09-27
[4]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
张丽杰 .
中国专利 :CN109037306A ,2018-12-18
[5]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
林静 ;
禹国宾 .
中国专利 :CN107180750A ,2017-09-19
[6]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
徐建华 .
中国专利 :CN108074815B ,2018-05-25
[7]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN110400746B ,2019-11-01
[8]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN108122852B ,2018-06-05
[9]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
邓浩 ;
徐建华 .
中国专利 :CN109285879A ,2019-01-29
[10]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
韩秋华 ;
吴端毅 .
中国专利 :CN109285811B ,2019-01-29