横向扩散金属氧化物半导体结构

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201020289701.9
申请日
2010-08-12
公开(公告)号
CN201732791U
公开(公告)日
2011-02-02
发明(设计)人
余荣伟
申请人
申请人地址
610041 四川省成都市高新区孵化园7号楼402室
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2906
代理机构
代理人
法律状态
专利权的终止
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共 50 条
[21]
横向扩散金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
张广胜 ;
张森 ;
胡小龙 ;
吴肖 .
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[22]
横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)晶体管 [P]. 
C·C·马 .
中国专利 :CN112768525A ,2021-05-07
[23]
一种射频横向扩散金属氧化物半导体版图结构 [P]. 
李赛 ;
李科 ;
丛密芳 ;
杜寰 .
中国专利 :CN203895454U ,2014-10-22
[24]
横向扩散金属氧化物半导体结构和其形成方法 [P]. 
游步东 ;
喻慧 ;
王猛 ;
杜益成 ;
彭川 ;
黄贤国 .
中国专利 :CN108682689A ,2018-10-19
[25]
一种射频横向扩散金属氧化物半导体版图结构 [P]. 
李赛 ;
李科 ;
丛密芳 ;
杜寰 .
中国专利 :CN103928460A ,2014-07-16
[26]
横向扩散金属氧化物半导体晶体管及其制造方法 [P]. 
邓永平 .
中国专利 :CN103178091A ,2013-06-26
[27]
具有RESURF结构的横向扩散金属氧化物半导体场效应管 [P]. 
祁树坤 ;
孙贵鹏 .
中国专利 :CN106571388A ,2017-04-19
[28]
避免双峰效应的横向扩散金属氧化物半导体晶体管结构 [P]. 
刘龙平 ;
令海阳 ;
陈爱军 ;
易亮 ;
黄庆丰 ;
杨华岳 .
中国专利 :CN101719511B ,2010-06-02
[29]
横向双扩散金属氧化物半导体(LDMOS)器件 [P]. 
I·C·马约尔 ;
A·扎卡 ;
T·赫尔曼 ;
E·M·巴齐齐 .
中国专利 :CN109817714B ,2019-05-28
[30]
一种横向双扩散金属氧化物半导体结构 [P]. 
杜蕾 .
中国专利 :CN107403837A ,2017-11-28