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有机树脂基板的制造方法、有机树脂基板和半导体装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610183113.9
申请日
:
2016-03-28
公开(公告)号
:
CN106028683A
公开(公告)日
:
2016-10-12
发明(设计)人
:
牧原康二
渡部格
西谷佳典
申请人
:
申请人地址
:
日本,东京都
IPC主分类号
:
H05K346
IPC分类号
:
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;池兵
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-01-23
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H05K 3/46 申请日:20160328
2016-10-12
公开
公开
2021-11-26
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H05K 3/46 申请公布日:20161012
共 50 条
[1]
有机树脂膜的去除方法及半导体装置的制造方法
[P].
冈本和之
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冈本和之
;
西村淳
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西村淳
;
市川雅士
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市川雅士
.
中国专利
:CN112015059A
,2020-12-01
[2]
树脂基板的连续制造方法和树脂基板
[P].
早川诚一郎
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早川诚一郎
;
胜间胜彦
论文数:
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胜间胜彦
.
中国专利
:CN101415554A
,2009-04-22
[3]
含纤维树脂基板、半导体元件搭载基板及半导体元件形成晶片、半导体装置及其制造方法
[P].
关口晋
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关口晋
;
塩原利夫
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塩原利夫
.
中国专利
:CN102543900B
,2012-07-04
[4]
树脂基板及树脂基板的制造方法
[P].
高田亮介
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高田亮介
.
中国专利
:CN113170572A
,2021-07-23
[5]
树脂基板及树脂基板的制造方法
[P].
高田亮介
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机构:
株式会社村田制作所
株式会社村田制作所
高田亮介
.
日本专利
:CN113170572B
,2024-11-05
[6]
有机半导体基板
[P].
孙硕阳
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机构:
友达光电股份有限公司
友达光电股份有限公司
孙硕阳
;
许世华
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机构:
友达光电股份有限公司
友达光电股份有限公司
许世华
;
陈敬文
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机构:
友达光电股份有限公司
友达光电股份有限公司
陈敬文
;
赖颖辉
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机构:
友达光电股份有限公司
友达光电股份有限公司
赖颖辉
.
中国专利
:CN113889576B
,2024-06-28
[7]
有机半导体基板
[P].
孙硕阳
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孙硕阳
;
许世华
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许世华
;
陈敬文
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陈敬文
;
赖颖辉
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赖颖辉
.
中国专利
:CN113889576A
,2022-01-04
[8]
半导体装置、半导体装置的制造方法、半导体基板、和半导体基板的制造方法
[P].
秦雅彦
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秦雅彦
;
福原升
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福原升
;
山田永
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山田永
;
高木信一
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高木信一
;
杉山正和
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杉山正和
;
竹中充
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竹中充
;
安田哲二
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安田哲二
;
宫田典幸
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宫田典幸
;
板谷太郎
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板谷太郎
;
石井裕之
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石井裕之
;
大竹晃浩
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大竹晃浩
;
奈良纯
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奈良纯
.
中国专利
:CN103474354A
,2013-12-25
[9]
半导体装置,半导体装置的制造方法,半导体基板,和半导体基板的制造方法
[P].
秦雅彦
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秦雅彦
;
福原升
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福原升
;
山田永
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山田永
;
高木信一
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高木信一
;
杉山正和
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杉山正和
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竹中充
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竹中充
;
安田哲二
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安田哲二
;
宫田典幸
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宫田典幸
;
板谷太郎
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板谷太郎
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石井裕之
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石井裕之
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大竹晃浩
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大竹晃浩
;
奈良纯
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奈良纯
.
中国专利
:CN102239549B
,2011-11-09
[10]
半导体基板和半导体基板的制造方法
[P].
今冈功
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今冈功
;
小林元树
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小林元树
;
内田英次
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内田英次
;
八木邦明
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八木邦明
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河原孝光
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河原孝光
;
八田直记
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八田直记
;
南章行
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南章行
;
坂田丰和
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坂田丰和
;
牧野友厚
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牧野友厚
;
加藤光治
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加藤光治
.
中国专利
:CN106489187A
,2017-03-08
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