光刻胶排放系统及光刻胶排放方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811235761.X

申请日：

2018-10-23

公开(公告)号：

CN111090219A

公开(公告)日：

2020-05-01

发明(设计)人：

郑义强

申请人：

申请人地址：

230601 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

G03F730

代理机构：

上海光华专利事务所(普通合伙) 31219

代理人：

余明伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-01	公开	公开
2020-05-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/16 申请日:20181023

共 50 条

[1]

光刻胶排放系统 [P].

郑义强 .

中国专利 :CN208848032U ,2019-05-10

[2]

光刻胶输送系统 [P].

金在植 ;

张成根 ;

林锺吉 ;

贺晓彬 ;

丁明正 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN114345644A ,2022-04-15

[3]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[4]

负性光刻胶废液的排放装置 [P].

张垚 .

中国专利 :CN220543257U ,2024-02-27

[5]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

[6]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[7]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[8]

饶夙缔 ;

陈孝贤 .

中国专利 :CN110174819B ,2019-08-27

[9]

光刻胶去除设备及光刻胶去除方法 [P].

邢程 ;

朱振华 .

中国专利 :CN113687575A ,2021-11-23

[10]

光刻胶回吸装置、光刻胶涂布设备及光刻胶涂布方法 [P].

金在植 ;

张成根 ;

林锺吉 ;

贺晓彬 ;

杨涛 ;

李俊峰 ;

王文武 .

中国专利 :CN114054287A ,2022-02-18

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