化学气相沉积装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202023142188.3

申请日：

2020-12-21

公开(公告)号：

CN215887227U

公开(公告)日：

2022-02-22

发明(设计)人：

吴铭钦刘峰

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏州片区苏州工业园区苏虹中路39号2幢2楼西侧

IPC主分类号：

C23C1654

IPC分类号：

C23C1646 C23C1652 C23C16458

代理机构：

北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139

代理人：

李怀周

法律状态：

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国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-02-22	授权	授权

共 50 条

[1]

化学气相沉积装置 [P].

阿诺德·德雷胡泽 ;

雷米·皮埃尔·罗伯特·布维尔 ;

曼侬·费尔南德斯 .

法国专利 :CN118076765A ,2024-05-24

[2]

化学气相沉积装置、化学气相沉积方法 [P].

周鸣 .

中国专利 :CN103060772B ,2013-04-24

[3]

化学气相沉积装置及其温度控制方法 [P].

吴铭钦 ;

刘峰 .

中国专利 :CN112680724A ,2021-04-20

[4]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[5]

化学气相沉积炉及化学气相沉积装置 [P].

杨竣焜 .

中国专利 :CN120575152A ,2025-09-02

[6]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[7]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN118814133A ,2024-10-22

[8]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[9]

化学气相沉积装置 [P].

龙梅丽 .

中国专利 :CN216427410U ,2022-05-03

[10]

化学气相沉积装置 [P].

黄全德 ;

黄文正 .

中国专利 :CN1626698A ,2005-06-15

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