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化学机械研磨垫
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN98123446.1
申请日
:
1998-10-23
公开(公告)号
:
CN1252336A
公开(公告)日
:
2000-05-10
发明(设计)人
:
陈学忠
申请人
:
申请人地址
:
台湾省新竹科学工业园区
IPC主分类号
:
B24D300
IPC分类号
:
代理机构
:
柳沈知识产权律师事务所
代理人
:
李晓舒
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2000-05-10
公开
公开
2003-12-17
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2001-12-19
授权
授权
2000-11-22
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
共 50 条
[1]
化学机械研磨垫
[P].
陈国庆
论文数:
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陈国庆
;
宁先捷
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宁先捷
;
黄河
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黄河
.
中国专利
:CN1521813A
,2004-08-18
[2]
化学机械研磨垫
[P].
王盼
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王盼
;
蔡长益
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蔡长益
.
中国专利
:CN209110816U
,2019-07-16
[3]
打印化学机械研磨垫
[P].
M·C·奥里拉尔
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M·C·奥里拉尔
;
T·麦克尔森
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T·麦克尔森
;
K·克里希南
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K·克里希南
;
R·巴贾杰
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R·巴贾杰
;
N·B·帕迪班德拉
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N·B·帕迪班德拉
;
D·莱德菲尔德
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D·莱德菲尔德
;
F·C·雷德克
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F·C·雷德克
;
G·E·孟克
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G·E·孟克
.
中国专利
:CN107073677A
,2017-08-18
[4]
用于化学机械研磨的研磨垫以及化学机械研磨设备
[P].
胡海天
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胡海天
;
李志国
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李志国
;
程君
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程君
;
陶仁峰
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陶仁峰
.
中国专利
:CN102744676A
,2012-10-24
[5]
研磨垫与化学机械研磨装置
[P].
林明勋
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机构:
华邦电子股份有限公司
华邦电子股份有限公司
林明勋
;
朱彦瑞
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机构:
华邦电子股份有限公司
华邦电子股份有限公司
朱彦瑞
;
林宥任
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机构:
华邦电子股份有限公司
华邦电子股份有限公司
林宥任
.
中国专利
:CN120170634A
,2025-06-20
[6]
研磨垫及化学机械研磨装置
[P].
谭玉荣
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谭玉荣
.
中国专利
:CN206567983U
,2017-10-20
[7]
化学机械研磨垫
[P].
朱晓飞
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朱晓飞
;
宋东虹
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宋东虹
.
中国专利
:CN204295485U
,2015-04-29
[8]
化学机械研磨垫
[P].
冈本隆浩
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冈本隆浩
;
桑原力丸
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桑原力丸
;
栗山敬祐
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栗山敬祐
;
辻昭卫
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辻昭卫
.
中国专利
:CN101379598B
,2009-03-04
[9]
用于化学机械研磨装置的研磨垫和化学机械研磨装置
[P].
刘慧超
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刘慧超
;
高林
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高林
.
中国专利
:CN215470444U
,2022-01-11
[10]
化学机械研磨用垫
[P].
河原弘二
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河原弘二
;
长谷川亨
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长谷川亨
;
樱井富士夫
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樱井富士夫
.
中国专利
:CN1701919A
,2005-11-30
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