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化学机械研磨用垫
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200510072918.8
申请日：
2005-05-24
公开(公告)号：
CN1701919A
公开(公告)日：
2005-11-30
发明(设计)人：
河原弘二
长谷川亨
樱井富士夫
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
B24B3704
IPC分类号：
H01L21304
代理机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人：
郭煜;庞立志
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2005-11-30 | 公开 | 公开 |
| 2009-10-21 | 发明专利申请公布后的视为撤回 | 发明专利申请公布后的视为撤回 |
| 2006-08-30 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |