化学机械研磨垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03115399.2

申请日：

2003-02-14

公开(公告)号：

CN1521813A

公开(公告)日：

2004-08-18

发明(设计)人：

陈国庆宁先捷黄河

申请人：

申请人地址：

201203上海市张江路18号

IPC主分类号：

H01L21302

IPC分类号：

B24B3700

代理机构：

上海专利商标事务所

代理人：

陈亮

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-19	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/302 登记生效日:20180531 变更事项:专利权人变更前权利人:中芯国际集成电路制造（上海）有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造（上海）有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市张江路18号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更事项:共同专利权人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司变更后权利人:中芯集成电路（宁波）有限公司
2012-01-04	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101260112216 IPC(主分类):H01L 21/302 专利号:ZL031153992 变更事项:专利权人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市张江路18号变更后权利人:201203 上海市张江路18号变更事项:共同专利权人变更前权利人:无变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司登记生效日:20111129
2009-08-05	专利实施许可合同的备案	专利实施许可合同的备案合同备案号:2009990000626 让与人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司受让人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司发明名称:化学机械研磨垫申请日:20030214 授权公告日:20060816 许可种类:独占许可备案日期:2009.6.5 合同履行期限:2009.4.29至2014.4.29合同变更
2004-10-27	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-08-16	授权	授权
2004-08-18	公开	公开

共 50 条

[1]

化学机械研磨垫 [P].

王盼 ;

蔡长益 .

中国专利 :CN209110816U ,2019-07-16

[2]

化学机械研磨垫 [P].

陈学忠 .

中国专利 :CN1252336A ,2000-05-10

[3]

打印化学机械研磨垫 [P].

M·C·奥里拉尔 ;

T·麦克尔森 ;

K·克里希南 ;

R·巴贾杰 ;

N·B·帕迪班德拉 ;

D·莱德菲尔德 ;

F·C·雷德克 ;

G·E·孟克 .

中国专利 :CN107073677A ,2017-08-18

[4]

用于化学机械研磨的研磨垫以及化学机械研磨设备 [P].

胡海天 ;

李志国 ;

程君 ;

陶仁峰 .

中国专利 :CN102744676A ,2012-10-24

[5]

研磨垫与化学机械研磨装置 [P].

林明勋 ;

朱彦瑞 ;

林宥任 .

中国专利 :CN120170634A ,2025-06-20

[6]

研磨垫及化学机械研磨装置 [P].

谭玉荣 .

中国专利 :CN206567983U ,2017-10-20

[7]

化学机械研磨垫 [P].

朱晓飞 ;

宋东虹 .

中国专利 :CN204295485U ,2015-04-29

[8]

化学机械研磨垫 [P].

冈本隆浩 ;

桑原力丸 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN101379598B ,2009-03-04

[9]

用于化学机械研磨装置的研磨垫和化学机械研磨装置 [P].

刘慧超 ;

高林 .

中国专利 :CN215470444U ,2022-01-11

[10]

化学机械研磨用垫 [P].

河原弘二 ;

长谷川亨 ;

樱井富士夫 .

中国专利 :CN1701919A ,2005-11-30

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