兼顾对准和调焦调平的测量系统及其测量方法和光刻机

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610934037.0

申请日：

2016-10-31

公开(公告)号：

CN108008607B

公开(公告)日：

2018-05-08

发明(设计)人：

张成爽潘炼东于大维

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 9/00 申请日:20161031
2020-05-01	授权	授权
2018-05-08	公开	公开

共 50 条

[1]

一种兼顾调焦调平和精密对准的测量系统及其测量方法 [P].

罗先刚 ;

刘明刚 ;

高平 ;

蒲明博 ;

马晓亮 ;

李雄 .

中国专利 :CN111381460A ,2020-07-07

[2]

调焦调平测量系统及其测量方法 [P].

关俊 .

中国专利 :CN101187783A ,2008-05-28

[3]

用于光刻设备的调焦调平系统及测量方法 [P].

李志丹 ;

程雪 ;

陈飞彪 .

中国专利 :CN103365096B ,2013-10-23

[4]

调焦调平系统及光刻机 [P].

彭俊 ;

张雨 ;

王晓庆 .

中国专利 :CN119535901A ,2025-02-28

[5]

用于光刻机的调焦调平装置及测量方法 [P].

廖飞红 ;

陈飞彪 ;

李小平 ;

程吉水 ;

李志科 .

中国专利 :CN101276160A ,2008-10-01

[6]

光刻机调焦调平机构以及光刻机调平机构 [P].

王大志 ;

何凯 ;

杜如虚 .

中国专利 :CN102854751A ,2013-01-02

[7]

调焦调平装置、光刻机系统及离焦量的测量方法 [P].

程于水 ;

徐荣伟 ;

庄亚政 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114675497A ,2022-06-28

[8]

调焦调平装置、光刻机系统及离焦量的测量方法 [P].

程于水 ;

徐荣伟 ;

庄亚政 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114675497B ,2025-05-20

[9]

用于光刻机设备测量组件的测量方法、装置及光刻机 [P].

冯建斌 ;

陈南曙 .

中国专利 :CN114063400B ,2022-02-18

[10]

测量系统、光刻设备和测量方法 [P].

马克·威廉姆斯·玛丽亚·范德威吉斯特 ;

恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇 ;

克恩·雅克布斯·约翰尼斯·玛丽亚·扎安尔 .

中国专利 :CN101276155B ,2008-10-01

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