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一种远区等离子体粉体处理设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201920411578.4
申请日
:
2019-03-29
公开(公告)号
:
CN210079364U
公开(公告)日
:
2020-02-18
发明(设计)人
:
孙敏
刘鑫培
王文韵
申请人
:
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市滨河路298号
IPC主分类号
:
B01F906
IPC分类号
:
B01J1908
代理机构
:
北京润川律师事务所 11643
代理人
:
张超;周亮
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-03-11
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B01F 9/06 申请日:20190329 授权公告日:20200218 终止日期:20210329
2020-02-18
授权
授权
共 50 条
[1]
一种远区等离子体粉体处理设备及使用方法
[P].
孙敏
论文数:
0
引用数:
0
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0
孙敏
;
刘鑫培
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0
刘鑫培
;
王文韵
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王文韵
.
中国专利
:CN110090582A
,2019-08-06
[2]
一种真空远区等离子体处理装置
[P].
沈文凯
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0
沈文凯
;
王红卫
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0
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0
王红卫
.
中国专利
:CN203588974U
,2014-05-07
[3]
一种真空远区等离子体处理装置
[P].
沈文凯
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沈文凯
;
王红卫
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王红卫
.
中国专利
:CN103681199A
,2014-03-26
[4]
一种远区等离子体喷枪装置
[P].
王红卫
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王红卫
;
沈文凯
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沈文凯
.
中国专利
:CN203618207U
,2014-05-28
[5]
一种新型粉体等离子体处理装置
[P].
王红卫
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王红卫
;
沈文凯
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沈文凯
.
中国专利
:CN203617245U
,2014-05-28
[6]
一种微波等离子体粉体处理装置
[P].
邬钦崇
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邬钦崇
;
邬明旭
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邬明旭
;
全峰
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全峰
.
中国专利
:CN206596282U
,2017-10-27
[7]
一种粉体材料表面等离子体处理装置
[P].
沈文凯
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沈文凯
;
王红卫
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王红卫
.
中国专利
:CN203562396U
,2014-04-23
[8]
等离子体处理设备
[P].
马哲国
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马哲国
;
陈金元
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陈金元
;
欧阳亮
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欧阳亮
;
董家伟
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董家伟
.
中国专利
:CN216145583U
,2022-03-29
[9]
等离子体处理设备
[P].
江家玮
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江家玮
;
徐朝阳
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徐朝阳
;
廉晓芳
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廉晓芳
;
范光伟
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范光伟
.
中国专利
:CN112530774A
,2021-03-19
[10]
等离子体处理设备
[P].
江家玮
论文数:
0
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
江家玮
;
徐朝阳
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
徐朝阳
;
廉晓芳
论文数:
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
廉晓芳
;
范光伟
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
范光伟
.
中国专利
:CN112530774B
,2024-04-05
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