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一种远区等离子体粉体处理设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201920411578.4
申请日
:
2019-03-29
公开(公告)号
:
CN210079364U
公开(公告)日
:
2020-02-18
发明(设计)人
:
孙敏
刘鑫培
王文韵
申请人
:
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市滨河路298号
IPC主分类号
:
B01F906
IPC分类号
:
B01J1908
代理机构
:
北京润川律师事务所 11643
代理人
:
张超;周亮
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-03-11
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B01F 9/06 申请日:20190329 授权公告日:20200218 终止日期:20210329
2020-02-18
授权
授权
共 50 条
[41]
等离子体设备和等离子体处理方法
[P].
叶江波
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叶江波
;
钱俊
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钱俊
;
肖禄
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肖禄
.
中国专利
:CN109564987A
,2019-04-02
[42]
等离子体产生设备及等离子体处理设备
[P].
尤里·N·托尔马切夫
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尤里·N·托尔马切夫
;
马东俊
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马东俊
;
金大一
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金大一
;
瑟吉·Y·纳瓦拉
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瑟吉·Y·纳瓦拉
.
中国专利
:CN1652661A
,2005-08-10
[43]
一种等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
林英浩
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机构:
江苏微导纳米科技股份有限公司
江苏微导纳米科技股份有限公司
林英浩
.
中国专利
:CN117894661A
,2024-04-16
[44]
一种等离子体处理装置
[P].
杨金全
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杨金全
;
苏兴才
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苏兴才
;
叶如彬
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叶如彬
.
中国专利
:CN213459633U
,2021-06-15
[45]
一种等离子体处理装置
[P].
杨金全
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杨金全
;
王正友
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王正友
;
段蛟
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段蛟
.
中国专利
:CN212750803U
,2021-03-19
[46]
一种等离子体处理装置
[P].
朱永成
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
朱永成
;
王智昊
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
王智昊
;
杨宽
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
杨宽
.
中国专利
:CN220585185U
,2024-03-12
[47]
等离子体处理设备及其包含等离子体处理设备的等离子体处理系统
[P].
范德宏
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范德宏
;
左涛涛
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左涛涛
.
中国专利
:CN112117176A
,2020-12-22
[48]
一种微波等离子体粉体处理器
[P].
邬钦崇
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邬钦崇
;
邬明旭
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邬明旭
;
全峰
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全峰
.
中国专利
:CN206595225U
,2017-10-27
[49]
一种粉体材料表面等离子体处理装置
[P].
沈文凯
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沈文凯
;
王红卫
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王红卫
.
中国专利
:CN103594319A
,2014-02-19
[50]
等离子体处理设备
[P].
李荣钟
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李荣钟
;
崔浚泳
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崔浚泳
;
安贤焕
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安贤焕
;
姜赞镐
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姜赞镐
;
白晛祐
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白晛祐
;
黄荣周
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黄荣周
.
中国专利
:CN1747132A
,2006-03-15
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