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一种远区等离子体粉体处理设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201920411578.4
申请日
:
2019-03-29
公开(公告)号
:
CN210079364U
公开(公告)日
:
2020-02-18
发明(设计)人
:
孙敏
刘鑫培
王文韵
申请人
:
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市滨河路298号
IPC主分类号
:
B01F906
IPC分类号
:
B01J1908
代理机构
:
北京润川律师事务所 11643
代理人
:
张超;周亮
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-03-11
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B01F 9/06 申请日:20190329 授权公告日:20200218 终止日期:20210329
2020-02-18
授权
授权
共 50 条
[21]
一种微波等离子体粉体处理装置
[P].
邬钦崇
论文数:
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0
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邬钦崇
;
邬明旭
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邬明旭
;
全峰
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全峰
.
中国专利
:CN106432779A
,2017-02-22
[22]
一种微波等离子体粉体处理装置
[P].
崔学刚
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崔学刚
;
方杏花
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方杏花
;
崔亮
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崔亮
.
中国专利
:CN212790931U
,2021-03-26
[23]
等离子体处理装置
[P].
日高康贵
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
日高康贵
;
风间晃一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
风间晃一
;
佐藤孝纪
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐藤孝纪
;
四本松美优
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
四本松美优
;
加藤武宏
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
加藤武宏
.
日本专利
:CN117716479A
,2024-03-15
[24]
等离子体处理装置
[P].
杨志军
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杨志军
.
中国专利
:CN204361048U
,2015-05-27
[25]
一种新型粉体等离子体处理装置
[P].
王红卫
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王红卫
;
沈文凯
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沈文凯
.
中国专利
:CN103730319A
,2014-04-16
[26]
一种微波等离子体粉体处理装置
[P].
邬钦崇
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邬钦崇
;
邬明旭
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邬明旭
;
全峰
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全峰
.
中国专利
:CN106658934A
,2017-05-10
[27]
等离子体处理装置
[P].
日高康贵
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日高康贵
;
小川纮矢
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小川纮矢
.
中国专利
:CN115692153A
,2023-02-03
[28]
一种等离子体处理设备
[P].
金熙中
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金熙中
.
中国专利
:CN213519855U
,2021-06-22
[29]
一种等离子体处理设备
[P].
李开元
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
李开元
;
周艳
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
周艳
.
中国专利
:CN222320176U
,2025-01-07
[30]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
菅井秀郎
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菅井秀郎
;
井出哲也
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井出哲也
;
佐佐木厚
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佐佐木厚
;
东和文
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东和文
;
中田行彦
论文数:
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中田行彦
.
中国专利
:CN1670912A
,2005-09-21
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