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氮化物半导体元件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201080010085.1
申请日
:
2010-02-17
公开(公告)号
:
CN102341922A
公开(公告)日
:
2012-02-01
发明(设计)人
:
福岛康之
上田哲三
申请人
:
申请人地址
:
日本大阪府
IPC主分类号
:
H01L3332
IPC分类号
:
H01L21205
H01L3322
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
汪惠民
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2012-02-01
公开
公开
2012-11-14
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101462745423 IPC(主分类):H01L 33/32 专利申请号:2010800100851 申请公布日:20120201
共 50 条
[1]
氮化物半导体元件及其制造方法
[P].
叶治东
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叶治东
;
廖文荣
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廖文荣
.
中国专利
:CN115440808A
,2022-12-06
[2]
氮化物半导体元件及其制造方法
[P].
石桥明彦
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石桥明彦
;
横川俊哉
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横川俊哉
;
岛本敏孝
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岛本敏孝
;
长谷川义晃
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长谷川义晃
;
川口靖利
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川口靖利
;
木户口勋
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木户口勋
.
中国专利
:CN100454597C
,2007-05-09
[3]
氮化物半导体元件及其制造方法
[P].
尺田幸男
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尺田幸男
;
园部雅之
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园部雅之
;
伊藤范和
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伊藤范和
.
中国专利
:CN101292328A
,2008-10-22
[4]
氮化物半导体元件及其制造方法
[P].
叶治东
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叶治东
;
廖文荣
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廖文荣
.
中国专利
:CN115394648A
,2022-11-25
[5]
氮化物半导体元件及其制造方法
[P].
大塚康二
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大塚康二
;
圶哲次
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圶哲次
;
佐藤纯治
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佐藤纯治
;
多田善纪
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多田善纪
;
吉田隆
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吉田隆
.
中国专利
:CN1846310B
,2006-10-11
[6]
氮化物半导体元件及其制造方法
[P].
菅原岳
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菅原岳
;
川口靖利
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川口靖利
;
石桥明彦
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石桥明彦
;
木户口勋
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木户口勋
;
横川俊哉
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横川俊哉
.
中国专利
:CN100349341C
,2006-04-26
[7]
氮化物半导体元件及其制造方法
[P].
下冈知祐
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下冈知祐
;
佐野雅彦
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佐野雅彦
;
东直树
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东直树
.
中国专利
:CN105280776A
,2016-01-27
[8]
氮化物半导体元件的制造方法和氮化物半导体元件
[P].
长滨慎一
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长滨慎一
;
佐野雅彦
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佐野雅彦
;
柳本友弥
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柳本友弥
;
坂本惠司
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坂本惠司
;
山本正司
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山本正司
;
森田大介
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森田大介
.
中国专利
:CN1290153C
,2004-02-18
[9]
氮化物半导体元件和氮化物半导体元件的制造方法
[P].
和田贡
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和田贡
;
希利尔·贝诺
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希利尔·贝诺
.
中国专利
:CN111587492A
,2020-08-25
[10]
氮化物半导体元件形成用晶片及其制造方法、氮化物半导体元件及其制造方法
[P].
渡边浩崇
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渡边浩崇
;
小河淳
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小河淳
;
冈崎舞
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冈崎舞
;
木下多贺雄
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木下多贺雄
.
中国专利
:CN102751412A
,2012-10-24
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