制作光刻胶图案的工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710166661.1

申请日：

2007-11-01

公开(公告)号：

CN101174087A

公开(公告)日：

2008-05-07

发明(设计)人：

林进祥陆晓慈陈桂顺张庆裕张尚文

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路8号

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

G03F720 G03F726 H01L21027

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司

代理人：

寿宁;张华辉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-05-07	公开	公开
2010-08-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101003937207 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2007101666611 公开日:20080507
2008-07-02	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

光刻胶图案的制造方法 [P].

朱联合 ;

刘丁 ;

王绪根 ;

姚振海 .

中国专利 :CN118466121A ,2024-08-09

[2]

光刻胶的显影工艺 [P].

武藤章 .

中国专利 :CN1096702C ,1999-02-10

[3]

形成光刻胶图案的方法 [P].

汪钉崇 ;

蓝受龙 .

中国专利 :CN101140421B ,2008-03-12

[4]

光刻胶图案的修整方法 [P].

C-B·徐 .

中国专利 :CN103186038B ,2013-07-03

[5]

形成光刻胶图案的方法 [P].

C·J·史密斯 ;

S·M·休斯 ;

C·M·J·霍克 ;

A·M·克罗尔 ;

A·G·纳吉 ;

P·M·瓦恩巴杰 .

中国专利 :CN100468642C ,2007-09-26

[6]

光刻胶图案修剪方法 [P].

G·珀勒斯 ;

C-B·徐 ;

K·劳维尔 .

中国专利 :CN103913946A ,2014-07-09

[7]

光刻胶图案修整方法 [P].

C-B·徐 .

中国专利 :CN103258720B ,2016-05-18

[8]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[9]

一种光刻胶及光刻胶图案的制作方法 [P].

刘明 ;

左岳平 ;

孟秋华 ;

王纯阳 ;

方飞 .

中国专利 :CN109270791A ,2019-01-25

[10]

光刻胶图案增厚材料，光刻胶图案形成工艺和半导体器件制造工艺 [P].

小泽美和 ;

野崎耕司 .

中国专利 :CN1497670A ,2004-05-19

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