X射线暗场成像中的射束硬化校正

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880033090.0

申请日：

2018-04-17

公开(公告)号：

CN110636796A

公开(公告)日：

2019-12-31

发明(设计)人：

A·亚罗申科 H-I·马克 T·克勒 F·德马尔科 L·B·格罗曼 K·维勒 P·诺埃尔

申请人：

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

IPC主分类号：

A61B600

IPC分类号：

G01V500

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

孟杰雄

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-31	公开	公开
2020-05-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 6/00 申请日:20180417

共 50 条

[1]

用于扫描暗场和相位对比成像的射束硬化校正 [P].

T·克勒 ;

H·德尔 ;

E·勒斯尔 .

中国专利 :CN107567640B ,2018-01-09

[2]

X射线成像中的数据校正 [P].

K·施蒂尔斯托费尔 ;

M·彼得希尔卡 ;

M·胡普费尔 ;

A·希伦布兰德 ;

M·鲍尔-贝克 ;

R·劳帕克 .

中国专利 :CN112562025A ,2021-03-26

[3]

X射线成像中的数据校正 [P].

K·施蒂尔斯托费尔 ;

M·彼得希尔卡 ;

M·胡普费尔 ;

A·希伦布兰德 ;

M·鲍尔-贝克 ;

R·劳帕克 .

德国专利 :CN112562025B ,2025-04-11

[4]

暗场或相衬X射线成像中的特征抑制 [P].

H-I·马克 .

中国专利 :CN109074636A ,2018-12-21

[5]

用于X射线CT射束硬化校正的混合线性化方案 [P].

高河伟 ;

孙智慧 .

中国专利 :CN115516514A ,2022-12-23

[6]

X射线射束整形 [P].

G·斯豪滕 ;

R·弗洛朗 .

中国专利 :CN105263418A ,2016-01-20

[7]

在容器中成像的样品微层析成像中的射束硬化伪像的校正 [P].

J·J·霍尔特 ;

A·M·金斯顿 ;

A·P·谢泼德 .

中国专利 :CN107209944A ,2017-09-26

[8]

对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的X射线入射条纹图样的X射线探测 [P].

R·斯特德曼布克 ;

E·勒斯尔 ;

W·吕腾 .

中国专利 :CN109863424A ,2019-06-07

[9]

一种基于卷积的X射线CT系统射束硬化校正方法 [P].

高富强 ;

周钦 ;

蔡玉芳 ;

陈赟飞 ;

冯永 ;

李岭 ;

兰扬 ;

严强 ;

安康 .

中国专利 :CN103134823B ,2013-06-05

[10]

CT射束硬化校正方法、CT射束硬化校正设备及存储介质 [P].

张国庆 ;

汪洋 ;

周玮 ;

陈文豪 .

中国专利 :CN115601455A ,2023-01-13

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