用于扫描暗场和相位对比成像的射束硬化校正

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680026448.8

申请日：

2016-05-06

公开(公告)号：

CN107567640B

公开(公告)日：

2018-01-09

发明(设计)人：

T·克勒 H·德尔 E·勒斯尔

申请人：

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

IPC主分类号：

G06T1100

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

王英;刘炳胜

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G06T 11/00 申请日:20160506
2022-04-05	授权	授权
2018-01-09	公开	公开

共 50 条

[1]

X射线暗场成像中的射束硬化校正 [P].

A·亚罗申科 ;

H-I·马克 ;

T·克勒 ;

F·德马尔科 ;

L·B·格罗曼 ;

K·维勒 ;

P·诺埃尔 .

中国专利 :CN110636796A ,2019-12-31

[2]

用于相位对比和暗场成像的运动伪影校正 [P].

T·克勒 ;

A·亚罗申科 ;

H-I·马克 ;

T·普拉洛 ;

B·伦特 .

中国专利 :CN114746896A ,2022-07-12

[3]

用于相位对比和暗场成像的运动伪影校正 [P].

T·克勒 ;

A·亚罗申科 ;

H-I·马克 ;

T·普拉洛 ;

B·伦特 .

:CN114746896B ,2025-11-07

[4]

用于相干散射CT的射束硬化和衰减校正 [P].

U·范斯蒂文达尔 ;

J·－P·施洛姆卡 .

中国专利 :CN1934590A ,2007-03-21

[5]

获得对计算机断层扫描数据进行射束硬化校正的射束硬化校正系数的方法和装置 [P].

刘丹 ;

王学礼 ;

曲彦玲 .

中国专利 :CN104700377B ,2015-06-10

[6]

射束硬化校正方法、装置、程序产品和扫描设备 [P].

邹起昂 ;

赵江魏 ;

李杰 .

中国专利 :CN118436370A ,2024-08-06

[7]

用于相位对比和/或暗场成像的X射线探测器 [P].

R·普罗克绍 .

中国专利 :CN107850680A ,2018-03-27

[8]

CT射束硬化校正方法、CT射束硬化校正设备及存储介质 [P].

张国庆 ;

汪洋 ;

周玮 ;

陈文豪 .

中国专利 :CN115601455A ,2023-01-13

[9]

用于相位对比成像的光栅 [P].

G·福格特米尔 .

中国专利 :CN103200874B ,2013-07-10

[10]

用于暗场成像的散射校正 [P].

T·克勒 ;

H-I·马克 ;

A·亚罗申科 ;

K·J·恩格尔 ;

B·门瑟 .

中国专利 :CN110998653A ,2020-04-10

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