用于SiC异质外延生长的原位刻蚀方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510007128.5
申请日
2015-01-07
公开(公告)号
CN104576320A
公开(公告)日
2015-04-29
发明(设计)人
吕红亮 贾仁需 王悦湖 汤晓燕 张玉明
申请人
申请人地址
710071 陕西省西安市雁塔区太白南路2号
IPC主分类号
H01L2102
IPC分类号
代理机构
北京亿腾知识产权代理事务所 11309
代理人
李楠
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
用于SiC异质外延生长的原位刻蚀方法 [P]. 
李百泉 ;
邱爱芹 .
中国专利 :CN105826173A ,2016-08-03
[2]
原位刻蚀方法 [P]. 
吕红亮 ;
贾仁需 ;
王悦湖 ;
汤晓燕 ;
张玉明 .
中国专利 :CN104538296A ,2015-04-22
[3]
原位刻蚀方法 [P]. 
李百泉 ;
邱爱芹 .
中国专利 :CN105826165A ,2016-08-03
[4]
多型SiC异质外延生长制备3C-SiC方法 [P]. 
杜凯 ;
杨军伟 ;
郭松波 ;
宋华平 .
中国专利 :CN121183416A ,2025-12-23
[5]
SiC衬底同质网状生长Web Growth外延方法 [P]. 
贾仁需 ;
辛斌 ;
宋庆文 ;
张艺蒙 ;
闫宏丽 .
中国专利 :CN103489759B ,2014-01-01
[6]
异质衬底外延生长方法、异质外延结构及其应用 [P]. 
朱江鹏 ;
徐俞 ;
徐建喜 ;
王亮 ;
徐科 .
中国专利 :CN120568935B ,2025-09-23
[7]
异质衬底外延生长方法、异质外延结构及其应用 [P]. 
朱江鹏 ;
徐俞 ;
徐建喜 ;
王亮 ;
徐科 .
中国专利 :CN120568935A ,2025-08-29
[8]
氧化镓的异质外延生长方法 [P]. 
黄小辉 ;
林桂荣 ;
刘润可 ;
田吻 .
中国专利 :CN120797195B ,2025-12-02
[9]
SiC材料外延生长设备 [P]. 
张森 ;
费磊 .
中国专利 :CN213835528U ,2021-07-30
[10]
氧化镓的异质外延生长方法 [P]. 
黄小辉 ;
林桂荣 ;
刘润可 ;
田吻 .
中国专利 :CN120797195A ,2025-10-17