一种等离子体处理制备金属氧化物薄膜阻变存储器的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610704333.1
申请日
2016-08-22
公开(公告)号
CN106098937A
公开(公告)日
2016-11-09
发明(设计)人
吴传贵 孙翔宇 帅垚 潘忻强 白晓园 张万里
申请人
申请人地址
611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
IPC主分类号
H01L4500
IPC分类号
H01L213065
代理机构
电子科技大学专利中心 51203
代理人
张杨
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种二元金属氧化物阻变存储器及其制作方法 [P]. 
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李颖弢 ;
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[2]
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[3]
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
一种氧化物薄膜阻变存储器多级阻态的电压调控方法 [P]. 
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