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一种优化光学邻近效应修正中曝光辅助图形的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010802375.5
申请日
:
2020-08-11
公开(公告)号
:
CN111812940A
公开(公告)日
:
2020-10-23
发明(设计)人
:
付欣欣
于世瑞
申请人
:
申请人地址
:
201315 上海市浦东新区良腾路6号
IPC主分类号
:
G03F136
IPC分类号
:
G03F720
代理机构
:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
:
曹廷廷
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-11-10
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/36 申请日:20200811
2020-10-23
公开
公开
共 50 条
[1]
光学邻近效应修正中散射条的嵌入方法
[P].
吴宗晔
论文数:
0
引用数:
0
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吴宗晔
;
叶甜春
论文数:
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叶甜春
;
罗军
论文数:
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罗军
;
赵杰
论文数:
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赵杰
;
王云
论文数:
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0
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王云
.
中国专利
:CN113031388A
,2021-06-25
[2]
一种光学邻近效应修正优化方法
[P].
苏正龙
论文数:
0
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
苏正龙
;
王康
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
王康
;
罗招龙
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
罗招龙
.
中国专利
:CN121069711A
,2025-12-05
[3]
一种光学邻近效应修正模型的优化方法
[P].
江志兴
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江志兴
;
王伟斌
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王伟斌
;
魏芳
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魏芳
;
吕煜坤
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吕煜坤
;
朱骏
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朱骏
;
张旭升
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张旭升
.
中国专利
:CN105223771A
,2016-01-06
[4]
光学邻近效应修正的方法
[P].
谢昌志
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谢昌志
;
林本立
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林本立
;
陈明瑞
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陈明瑞
.
中国专利
:CN1403873A
,2003-03-19
[5]
光学邻近效应修正方法
[P].
许征
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
许征
;
孟鸿林
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
孟鸿林
;
储志浩
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
储志浩
.
中国专利
:CN120469147A
,2025-08-12
[6]
一种光学邻近效应修正方法
[P].
黄双龙
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黄双龙
;
倪凌云
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倪凌云
;
黄增智
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黄增智
;
夏睿
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夏睿
.
中国专利
:CN110501870A
,2019-11-26
[7]
一种光学邻近效应修正方法
[P].
黄双龙
论文数:
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机构:
淮安西德工业设计有限公司
淮安西德工业设计有限公司
黄双龙
;
倪凌云
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机构:
淮安西德工业设计有限公司
淮安西德工业设计有限公司
倪凌云
;
黄增智
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机构:
淮安西德工业设计有限公司
淮安西德工业设计有限公司
黄增智
;
夏睿
论文数:
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机构:
淮安西德工业设计有限公司
淮安西德工业设计有限公司
夏睿
.
中国专利
:CN110501870B
,2024-03-15
[8]
一种光学邻近效应修正方法
[P].
刘娟
论文数:
0
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0
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0
刘娟
.
中国专利
:CN102103324A
,2011-06-22
[9]
光学邻近效应修正方法及其修正系统
[P].
乔彦辉
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乔彦辉
;
王丹
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王丹
;
于世瑞
论文数:
0
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0
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0
于世瑞
.
中国专利
:CN110456617A
,2019-11-15
[10]
一种基于模型的光学邻近效应修正优化方法、装置及设备
[P].
姚逸云
论文数:
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
姚逸云
;
王栋
论文数:
0
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
王栋
;
袁伟
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
袁伟
.
中国专利
:CN120831862A
,2025-10-24
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