提高靶材利用率及涂层质量的装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201820234720.8

申请日：

2018-02-09

公开(公告)号：

CN207845765U

公开(公告)日：

2018-09-11

发明(设计)人：

傅铭桓

申请人：

申请人地址：

510880 广东省广州市花都区花山镇菊花石大道288号祈福工业城A5厂房

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

广州圣理华知识产权代理有限公司 44302

代理人：

顿海舟;李唐明

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-09-11	授权	授权

共 50 条

[1]

提高靶材利用率的磁性靶材 [P].

李原吉 ;

刘品均 ;

杨峻杰 ;

陈松醮 ;

蔡明展 ;

林子平 .

中国专利 :CN110408900B ,2019-11-05

[2]

一种提高靶材利用率的靶材结构 [P].

丁杰 ;

陈云飞 .

中国专利 :CN203546138U ,2014-04-16

[3]

提高镀膜靶材利用率的方法 [P].

徐旻生 ;

庄炳河 ;

张永胜 ;

满小花 ;

曹志刚 ;

吴远法 ;

张雨龙 .

中国专利 :CN106244990A ,2016-12-21

[4]

提高平面靶材利用率的背板组件 [P].

连重炎 ;

刘林 ;

卢海江 ;

黄显艺 ;

任晓东 .

中国专利 :CN215856302U ,2022-02-18

[5]

具有较高靶材利用率的靶材组件 [P].

胡业新 ;

高毓康 .

中国专利 :CN214736055U ,2021-11-16

[6]

一种可提高靶材利用率的靶座 [P].

刘林 ;

檀玉珩 .

中国专利 :CN204550699U ,2015-08-12

[7]

一种可提高靶材利用率的靶座 [P].

孙伟华 .

中国专利 :CN208395259U ,2019-01-18

[8]

一种可提高靶材利用率的平面靶 [P].

胥小勇 ;

颜建师 ;

涂培堤 .

中国专利 :CN213013073U ,2021-04-20

[9]

一种提高靶材利用率的新型平面阴极 [P].

张俊峰 ;

魏庆瑄 ;

赵子东 ;

张富 ;

李中云 ;

张大剑 .

中国专利 :CN206308414U ,2017-07-07

[10]

一种用于提高磁控溅射镀膜靶材利用率的靶材 [P].

周航锋 ;

贺伟 ;

侍进山 ;

徐博文 ;

李景 ;

李信 ;

陈武 ;

万禄兵 .

中国专利 :CN203947153U ,2014-11-19

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