一种可提高靶材利用率的靶座

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520217063.2

申请日：

2015-04-13

公开(公告)号：

CN204550699U

公开(公告)日：

2015-08-12

发明(设计)人：

刘林檀玉珩

申请人：

申请人地址：

251200 山东省德州市禹城市高新区振兴大道汉能光伏产业园

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

代理机构：

济南泉城专利商标事务所 37218

代理人：

郭禾苗

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-08-12	授权	授权
2019-03-29	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/34 登记生效日:20190311 变更事项:专利权人变更前权利人:汉能光伏科技有限公司变更后权利人:汉能移动能源控股集团有限公司变更事项:地址变更前权利人:100107 北京市朝阳区奥运村街道办公区2号楼103室变更后权利人:100107 北京市朝阳区奥运村街道综合办公区2号楼107室
2019-03-01	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/34 登记生效日:20190212 变更事项:专利权人变更前权利人:山东禹城汉能薄膜太阳能有限公司变更后权利人:汉能光伏科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:251200 山东省德州市禹城市高新区振兴大道汉能光伏产业园变更后权利人:100107 北京市朝阳区奥运村街道办公区2号楼103室

共 50 条

[1]

一种可提高靶材利用率的靶座 [P].

孙伟华 .

中国专利 :CN208395259U ,2019-01-18

[2]

一种可提高靶材利用率的平面靶 [P].

胥小勇 ;

颜建师 ;

涂培堤 .

中国专利 :CN213013073U ,2021-04-20

[3]

一种提高靶材利用率的靶材结构 [P].

丁杰 ;

陈云飞 .

中国专利 :CN203546138U ,2014-04-16

[4]

提高靶材利用率的磁性靶材 [P].

李原吉 ;

刘品均 ;

杨峻杰 ;

陈松醮 ;

蔡明展 ;

林子平 .

中国专利 :CN110408900B ,2019-11-05

[5]

一种可提高靶材利用率的平面靶 [P].

郭喜明 ;

张浩 ;

王英智 ;

王开亮 .

中国专利 :CN208501089U ,2019-02-15

[6]

一种用于提高磁控溅射镀膜靶材利用率的靶材 [P].

周航锋 ;

贺伟 ;

侍进山 ;

徐博文 ;

李景 ;

李信 ;

陈武 ;

万禄兵 .

中国专利 :CN203947153U ,2014-11-19

[7]

具有较高靶材利用率的靶材组件 [P].

胡业新 ;

高毓康 .

中国专利 :CN214736055U ,2021-11-16

[8]

提高镀膜靶材利用率的方法 [P].

徐旻生 ;

庄炳河 ;

张永胜 ;

满小花 ;

曹志刚 ;

吴远法 ;

张雨龙 .

中国专利 :CN106244990A ,2016-12-21

[9]

一种提高靶材利用率的方法 [P].

张依腾 ;

郑风云 ;

杨文胜 ;

何海山 ;

李伟界 .

中国专利 :CN115558898A ,2023-01-03

[10]

一种提高靶材利用率的方法 [P].

张依腾 ;

郑风云 ;

杨文胜 ;

何海山 ;

李伟界 .

中国专利 :CN115558898B ,2024-09-13

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