一种提高靶材利用率的方法

被引：0

申请号：

CN202211182164.1

申请日：

2022-09-27

公开(公告)号：

CN115558898A

公开(公告)日：

2023-01-03

发明(设计)人：

张依腾郑风云杨文胜何海山李伟界

申请人：

申请人地址：

516029 广东省惠州市仲恺高新区新华大道南1号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

广州市华学知识产权代理有限公司 44245

代理人：

唐超

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20220927
2023-01-03	公开	公开

共 50 条

[1]

一种提高靶材利用率的方法 [P].

张依腾 ;

郑风云 ;

杨文胜 ;

何海山 ;

李伟界 .

中国专利 :CN115558898B ,2024-09-13

[2]

提高靶材利用率的磁性靶材 [P].

李原吉 ;

刘品均 ;

杨峻杰 ;

陈松醮 ;

蔡明展 ;

林子平 .

中国专利 :CN110408900B ,2019-11-05

[3]

提高镀膜靶材利用率的方法 [P].

徐旻生 ;

庄炳河 ;

张永胜 ;

满小花 ;

曹志刚 ;

吴远法 ;

张雨龙 .

中国专利 :CN106244990A ,2016-12-21

[4]

一种提高靶材利用率的靶材结构 [P].

丁杰 ;

陈云飞 .

中国专利 :CN203546138U ,2014-04-16

[5]

一种可提高靶材利用率的平面靶 [P].

郭喜明 ;

张浩 ;

王英智 ;

王开亮 .

中国专利 :CN208501089U ,2019-02-15

[6]

一种可提高靶材利用率的靶座 [P].

刘林 ;

檀玉珩 .

中国专利 :CN204550699U ,2015-08-12

[7]

一种可提高靶材利用率的靶座 [P].

孙伟华 .

中国专利 :CN208395259U ,2019-01-18

[8]

一种可提高靶材利用率的平面靶 [P].

胥小勇 ;

颜建师 ;

涂培堤 .

中国专利 :CN213013073U ,2021-04-20

[9]

一种靶材及提高靶材利用率的方法与应用 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

蒋云霞 ;

王学泽 ;

呼雷 .

中国专利 :CN110241392A ,2019-09-17

[10]

一种用于提高磁控溅射镀膜靶材利用率的靶材 [P].

周航锋 ;

贺伟 ;

侍进山 ;

徐博文 ;

李景 ;

李信 ;

陈武 ;

万禄兵 .

中国专利 :CN203947153U ,2014-11-19

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