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半导体结构以及形成半导体结构的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610159010.9
申请日
:
2016-03-18
公开(公告)号
:
CN105990391B
公开(公告)日
:
2016-10-05
发明(设计)人
:
蔡劲
E·里欧班端
李宁
宁德雄
J-O·普卢查特
D·K·萨达纳
申请人
:
申请人地址
:
美国纽约阿芒克
IPC主分类号
:
H01L2715
IPC分类号
:
H01L3344
H01L2177
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
酆迅
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-11-09
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101686678492 IPC(主分类):H01L 27/15 专利申请号:2016101590109 申请日:20160318
2019-07-26
授权
授权
2016-10-05
公开
公开
共 50 条
[1]
形成半导体结构的方法和半导体结构
[P].
辛格·古尔巴格
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
辛格·古尔巴格
;
王柏仁
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
王柏仁
;
庄坤苍
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
庄坤苍
.
中国专利
:CN113206041B
,2025-06-03
[2]
形成半导体结构的方法和半导体结构
[P].
辛格·古尔巴格
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辛格·古尔巴格
;
王柏仁
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王柏仁
;
庄坤苍
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庄坤苍
.
中国专利
:CN113206041A
,2021-08-03
[3]
形成半导体结构的方法以及半导体结构
[P].
斯蒂芬·W.·贝德尔
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斯蒂芬·W.·贝德尔
;
安东尼·G.·多梅尼库奇
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安东尼·G.·多梅尼库奇
;
基思·E.·弗格尔
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基思·E.·弗格尔
;
埃芬迪·莱奥班顿
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埃芬迪·莱奥班顿
;
德温德拉·K.·萨达纳
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德温德拉·K.·萨达纳
.
中国专利
:CN1716576A
,2006-01-04
[4]
半导体结构以及形成半导体结构的方法
[P].
黄义钧
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黄义钧
;
陈奕志
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陈奕志
;
郭俊玮
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郭俊玮
.
中国专利
:CN112151497A
,2020-12-29
[5]
半导体结构以及半导体结构的形成方法
[P].
吴保磊
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吴保磊
;
王晓光
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王晓光
.
中国专利
:CN114695355A
,2022-07-01
[6]
形成半导体结构的方法及其半导体结构
[P].
郑政玮
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郑政玮
;
D·K·萨达纳
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D·K·萨达纳
;
徐崑庭
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徐崑庭
.
中国专利
:CN105845678B
,2016-08-10
[7]
半导体结构以及形成半导体结构的方法
[P].
拉塞尔·A·本森
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拉塞尔·A·本森
.
中国专利
:CN101952963B
,2011-01-19
[8]
形成半导体结构的方法以及半导体结构
[P].
S·M·尚克
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S·M·尚克
;
J·A·特拉帕索
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J·A·特拉帕索
;
Y·L·尼诺米亚
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Y·L·尼诺米亚
;
J·马林
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J·马林
;
J·克莱因
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J·克莱因
;
D·丹格
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D·丹格
;
B·W·波思
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B·W·波思
;
M·D·拉格奎斯特
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M·D·拉格奎斯特
.
中国专利
:CN1828842A
,2006-09-06
[9]
半导体结构以及形成半导体结构的方法
[P].
艾伦·罗斯
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艾伦·罗斯
;
艾力克·苏宁
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艾力克·苏宁
;
徐英智
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徐英智
;
尼克·萨姆拉
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尼克·萨姆拉
;
斯帝芬·鲁苏
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斯帝芬·鲁苏
.
中国专利
:CN110610926B
,2019-12-24
[10]
半导体结构、半导体器件以及形成半导体结构的方法
[P].
迪特尔·克拉埃斯
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迪特尔·克拉埃斯
;
贝恩德·埃塞内尔
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贝恩德·埃塞内尔
;
京特·普法伊费尔
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京特·普法伊费尔
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德特勒夫·威廉
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德特勒夫·威廉
.
中国专利
:CN103022017A
,2013-04-03
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