半导体纳米晶荧光材料的制备方法以及通过所述方法制备的半导体纳米晶荧光材料及其应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911055146.5
申请日
2019-10-31
公开(公告)号
CN110734758A
公开(公告)日
2020-01-31
发明(设计)人
李良 张庆刚
申请人
申请人地址
200240 上海市闵行区东川路800号
IPC主分类号
C09K1102
IPC分类号
C09K1166 C09K1188 C09K1156 C09K1162 H01L3350 G01N2164 A61K4900
代理机构
深圳市韦恩肯知识产权代理有限公司 44375
代理人
李华双
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体纳米材料的制备方法 [P]. 
丘洁龙 .
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[2]
半导体纳米晶群及其制备方法 [P]. 
彭笑刚 ;
曹煦 ;
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[3]
半导体纳米晶图案层的制备方法及其应用 [P]. 
肖鹏伟 ;
高远 ;
赵婧馨 .
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[4]
一种荧光半导体纳米晶防伪纸的制备方法 [P]. 
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[5]
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[6]
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宋波 ;
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刘桃香 ;
张清杰 .
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[7]
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娄世云 ;
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[8]
弱限域半导体纳米晶、其制备方法以及应用 [P]. 
彭笑刚 ;
吕刘林 ;
李烱昭 ;
刘少杰 .
中国专利 :CN115893474B ,2024-10-22
[9]
一种半导体纳米晶/量子点敏化的晶硅材料及其制备方法 [P]. 
余锡宾 ;
王飞久 ;
杜梦娟 ;
张坤 ;
浦旭鑫 .
中国专利 :CN102184979B ,2011-09-14
[10]
一种半导体纳米晶/量子点敏化的晶硅材料及其制备方法 [P]. 
余锡宾 ;
王飞久 ;
杜梦娟 ;
张坤 ;
浦旭鑫 .
中国专利 :CN102184978A ,2011-09-14