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一种对碳化硅晶片进行减薄的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201010145299.1
申请日
:
2010-04-09
公开(公告)号
:
CN102214565A
公开(公告)日
:
2011-10-12
发明(设计)人
:
汪宁
陈晓娟
罗卫军
庞磊
刘新宇
申请人
:
申请人地址
:
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
IPC主分类号
:
H01L21302
IPC分类号
:
H01L21304
H01L21306
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
周国城
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2011-10-12
公开
公开
2012-10-03
授权
授权
2011-11-30
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101143713828 IPC(主分类):H01L 21/302 专利申请号:2010101452991 申请日:20100409
共 50 条
[1]
一种碳化硅晶片减薄装置及方法
[P].
姚智勇
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姚智勇
;
贺贤汉
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贺贤汉
;
李有群
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李有群
;
蔡佳琳
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蔡佳琳
;
吴寒
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吴寒
.
中国专利
:CN114714234A
,2022-07-08
[2]
一种对蓝宝石晶片进行减薄的方法
[P].
汪宁
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汪宁
;
陈晓娟
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陈晓娟
;
罗卫军
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罗卫军
;
庞磊
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庞磊
;
刘新宇
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刘新宇
.
中国专利
:CN102214555A
,2011-10-12
[3]
碳化硅晶片以及碳化硅晶片的制备方法
[P].
朴钟辉
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赛尼克公司
赛尼克公司
朴钟辉
;
甄明玉
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赛尼克公司
赛尼克公司
甄明玉
;
沈钟珉
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赛尼克公司
赛尼克公司
沈钟珉
;
张炳圭
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赛尼克公司
赛尼克公司
张炳圭
;
崔正宇
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赛尼克公司
赛尼克公司
崔正宇
;
高上基
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赛尼克公司
赛尼克公司
高上基
;
具甲烈
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赛尼克公司
赛尼克公司
具甲烈
;
金政圭
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机构:
赛尼克公司
赛尼克公司
金政圭
.
韩国专利
:CN112746324B
,2024-04-30
[4]
碳化硅晶片以及碳化硅晶片的制备方法
[P].
朴钟辉
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朴钟辉
;
甄明玉
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甄明玉
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沈钟珉
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沈钟珉
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张炳圭
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张炳圭
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崔正宇
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高上基
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高上基
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具甲烈
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具甲烈
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金政圭
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金政圭
.
中国专利
:CN112746324A
,2021-05-04
[5]
碳化硅晶片、碳化硅晶锭及碳化硅晶片的制备方法
[P].
朴钟辉
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朴钟辉
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沈钟珉
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沈钟珉
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梁殷寿
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梁殷寿
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李演湜
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李演湜
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张炳圭
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张炳圭
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崔正宇
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崔正宇
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高上基
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高上基
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具甲烈
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具甲烈
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金政圭
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金政圭
.
中国专利
:CN112746317A
,2021-05-04
[6]
碳化硅晶片、碳化硅晶锭及碳化硅晶片的制备方法
[P].
朴钟辉
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赛尼克公司
赛尼克公司
朴钟辉
;
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赛尼克公司
赛尼克公司
沈钟珉
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赛尼克公司
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赛尼克公司
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崔正宇
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赛尼克公司
崔正宇
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高上基
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赛尼克公司
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具甲烈
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具甲烈
;
金政圭
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机构:
赛尼克公司
赛尼克公司
金政圭
.
韩国专利
:CN112746317B
,2024-05-31
[7]
碳化硅晶锭、碳化硅晶片、碳化硅晶锭及碳化硅晶片的制造方法
[P].
堂本千秋
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堂本千秋
;
正木克明
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正木克明
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柴田和也
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柴田和也
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山口恵彥
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山口恵彥
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上山大辅
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上山大辅
.
中国专利
:CN105940149A
,2016-09-14
[8]
碳化硅晶片的制造方法、碳化硅晶片和制造晶片的系统
[P].
金政圭
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赛尼克公司
金政圭
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崔正宇
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崔正宇
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朴钟辉
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赛尼克公司
朴钟辉
.
韩国专利
:CN114762995B
,2024-04-26
[9]
一种碳化硅晶体的制备方法、碳化硅晶片、碳化硅衬底及半导体器件
[P].
林大野
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林大野
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王治中
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王治中
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蔡钦铭
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蔡钦铭
.
中国专利
:CN113463197A
,2021-10-01
[10]
碳化硅晶片的制造方法、碳化硅晶片和制造晶片的系统
[P].
金政圭
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金政圭
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具甲烈
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具甲烈
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徐正斗
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:CN114762995A
,2022-07-19
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