一种高透过率低电阻银纳米线薄膜的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610956482.7
申请日
2016-10-27
公开(公告)号
CN106504829B
公开(公告)日
2017-03-15
发明(设计)人
彭寿 操芳芳 金良茂 王芸 汤永康 王巍巍
申请人
申请人地址
233010 安徽省蚌埠市禹会区涂山路1047号
IPC主分类号
H01B1300
IPC分类号
B22F100 B22F924
代理机构
安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113
代理人
陈俊
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种制备银纳米线以及银纳米线薄膜的方法 [P]. 
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[2]
一种高透光、低发射率的银纳米线薄膜的制备方法 [P]. 
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郝一林 ;
董天炜 ;
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姬广斌 .
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[3]
银纳米线及其制备方法、银纳米线薄膜及复合薄膜 [P]. 
檀满林 ;
田勇 ;
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符冬菊 ;
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[4]
一种高耐热银纳米线薄膜的制备方法 [P]. 
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[5]
银纳米线薄膜的制备方法 [P]. 
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李奇琳 ;
彭哲伟 ;
陈建良 ;
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[6]
银纳米线薄膜的制备方法 [P]. 
陈志雄 ;
李奇琳 ;
彭哲伟 ;
罗晓雯 ;
陈建良 ;
甘堃 ;
陈超云 .
中国专利 :CN110580973B ,2019-12-17
[7]
银纳米线薄膜的制备方法 [P]. 
陈志雄 ;
李奇琳 ;
王新月 ;
陈建良 ;
罗晓雯 ;
甘堃 ;
陈超云 .
中国专利 :CN110517828A ,2019-11-29
[8]
低电阻高透过率低粗糙度的银纳米线复合电极及其制备方法和应用 [P]. 
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刘鹤 .
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[9]
银纳米线导电薄膜的制备方法 [P]. 
陈建良 ;
李奇琳 ;
甘堃 ;
陈超云 .
中国专利 :CN110634620A ,2019-12-31
[10]
银纳米线薄膜及其制备方法 [P]. 
王新月 ;
李奇琳 ;
甘堃 .
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