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批次型湿法刻蚀设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202120138106.3
申请日
:
2021-01-19
公开(公告)号
:
CN213988841U
公开(公告)日
:
2021-08-17
发明(设计)人
:
吴镐硕
朴灵绪
申请人
:
申请人地址
:
215024 江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区02栋703室
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
代理机构
:
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
:
余明伟
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-08-17
授权
授权
共 50 条
[1]
旋转湿法刻蚀设备
[P].
杨抗
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0
杨抗
.
中国专利
:CN208903981U
,2019-05-24
[2]
湿法刻蚀设备
[P].
干怀渝
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
干怀渝
;
迟世兴
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
迟世兴
;
赵嘉
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
赵嘉
;
杜清龙
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
杜清龙
.
中国专利
:CN220400547U
,2024-01-26
[3]
湿法刻蚀设备
[P].
梁堰风
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梁堰风
;
杨永刚
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杨永刚
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张丝柳
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张丝柳
;
苏界
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苏界
;
王家成
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王家成
.
中国专利
:CN215815802U
,2022-02-11
[4]
恒温湿法刻蚀设备
[P].
杨抗
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杨抗
.
中国专利
:CN209312722U
,2019-08-27
[5]
硅片湿法刻蚀设备
[P].
卫志敏
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卫志敏
;
肖新民
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肖新民
;
丁志强
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丁志强
;
祁宏山
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祁宏山
;
王文杰
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王文杰
;
彭文龙
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彭文龙
.
中国专利
:CN203754809U
,2014-08-06
[6]
湿法刻蚀设备和湿法刻蚀方法
[P].
丁向前
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丁向前
;
刘晓伟
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刘晓伟
;
刘耀
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刘耀
;
郭总杰
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郭总杰
.
中国专利
:CN104018158A
,2014-09-03
[7]
湿法刻蚀槽以及湿法刻蚀设备
[P].
刘海亮
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刘海亮
;
王鹏涛
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王鹏涛
;
严清涛
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严清涛
;
许非凡
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许非凡
.
中国专利
:CN206541807U
,2017-10-03
[8]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
刘哲准
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机构:
长鑫存储技术有限公司
长鑫存储技术有限公司
刘哲准
.
中国专利
:CN118352261A
,2024-07-16
[9]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法
[P].
薛大鹏
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薛大鹏
.
中国专利
:CN105742213B
,2016-07-06
[10]
湿法刻蚀设备
[P].
薛大鹏
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薛大鹏
.
中国专利
:CN104681471A
,2015-06-03
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