旋转湿法刻蚀设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201821854576.4

申请日：

2018-11-12

公开(公告)号：

CN208903981U

公开(公告)日：

2019-05-24

发明(设计)人：

杨抗

申请人：

申请人地址：

230601 安徽省合肥市合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

上海光华专利事务所(普通合伙) 31219

代理人：

余明伟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-24	授权	授权

共 50 条

[1]

旋转湿法刻蚀设备及方法 [P].

杨抗 .

中国专利 :CN111180351A ,2020-05-19

[2]

恒温湿法刻蚀设备 [P].

杨抗 .

中国专利 :CN209312722U ,2019-08-27

[3]

湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法 [P].

刘哲准 .

中国专利 :CN118352261A ,2024-07-16

[4]

湿法刻蚀设备 [P].

方灵新 ;

王钊 ;

杨洁 ;

张昕宇 ;

沈梦超 ;

顾文贤 .

中国专利 :CN222814767U ,2025-04-29

[5]

湿法刻蚀设备 [P].

干怀渝 ;

迟世兴 ;

赵嘉 ;

杜清龙 .

中国专利 :CN220400547U ,2024-01-26

[6]

湿法刻蚀设备 [P].

梁堰风 ;

杨永刚 ;

张丝柳 ;

苏界 ;

王家成 .

中国专利 :CN215815802U ,2022-02-11

[7]

批次型湿法刻蚀设备 [P].

吴镐硕 ;

朴灵绪 .

中国专利 :CN213988841U ,2021-08-17

[8]

硅片湿法刻蚀设备 [P].

卫志敏 ;

肖新民 ;

丁志强 ;

祁宏山 ;

王文杰 ;

彭文龙 .

中国专利 :CN203754809U ,2014-08-06

[9]

湿法刻蚀设备和湿法刻蚀方法 [P].

丁向前 ;

刘晓伟 ;

刘耀 ;

郭总杰 .

中国专利 :CN104018158A ,2014-09-03

[10]

湿法刻蚀槽以及湿法刻蚀设备 [P].

刘海亮 ;

王鹏涛 ;

严清涛 ;

许非凡 .

中国专利 :CN206541807U ,2017-10-03

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