湿法刻蚀设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202420656684.X
申请日
2024-04-01
公开(公告)号
CN222814767U
公开(公告)日
2025-04-29
发明(设计)人
方灵新 王钊 杨洁 张昕宇 沈梦超 顾文贤
申请人
浙江晶科能源有限公司 晶科能源股份有限公司
申请人地址
314400 浙江省嘉兴市海宁市袁花镇袁溪路58号
IPC主分类号
H10F71/00
IPC分类号
H01L21/67 H01L21/66 H01L21/306 G01N33/00
代理机构
华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
别亚琴
法律状态
授权
国省代码
浙江省 嘉兴市
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共 50 条
[1]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法 [P]. 
刘哲准 .
中国专利 :CN118352261A ,2024-07-16
[2]
旋转湿法刻蚀设备 [P]. 
杨抗 .
中国专利 :CN208903981U ,2019-05-24
[3]
湿法刻蚀设备和湿法刻蚀方法 [P]. 
丁向前 ;
刘晓伟 ;
刘耀 ;
郭总杰 .
中国专利 :CN104018158A ,2014-09-03
[4]
湿法刻蚀设备及湿法刻蚀方法 [P]. 
薛大鹏 .
中国专利 :CN105742213B ,2016-07-06
[5]
湿法刻蚀设备 [P]. 
薛大鹏 .
中国专利 :CN104681471A ,2015-06-03
[6]
湿法刻蚀设备 [P]. 
陈建锋 .
中国专利 :CN110197802B ,2019-09-03
[7]
湿法刻蚀设备 [P]. 
干怀渝 ;
迟世兴 ;
赵嘉 ;
杜清龙 .
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[8]
恒温湿法刻蚀设备 [P]. 
杨抗 .
中国专利 :CN209312722U ,2019-08-27
[9]
一种湿法刻蚀设备 [P]. 
左岳平 .
中国专利 :CN203787389U ,2014-08-20
[10]
旋转湿法刻蚀设备及方法 [P]. 
杨抗 .
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