一种ICP低温等离子体刻蚀设备

被引：0

申请号：

CN202122986867.7

申请日：

2021-12-01

公开(公告)号：

CN216871889U

公开(公告)日：

2022-07-01

发明(设计)人：

王硕

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市苏州工业园区东旺路8号6幢1楼107室

IPC主分类号：

H01J3702

IPC分类号：

H01J37305 H01J3716 H01J37248 H01J3718 F16F1504

代理机构：

北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489

代理人：

邵娟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-01	授权	授权

共 50 条

[1]

一种ICP等离子体刻蚀机 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN112420475A ,2021-02-26

[2]

等离子体刻蚀装置及等离子体刻蚀方法 [P].

刘东升 ;

吕煜坤 ;

朱骏 ;

张旭升 .

中国专利 :CN105161395A ,2015-12-16

[3]

一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机 [P].

陆桥宏 ;

何东旺 ;

曹俊 ;

薛燕 .

中国专利 :CN118675973B ,2025-06-17

[4]

一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机 [P].

陆桥宏 ;

何东旺 ;

曹俊 ;

薛燕 .

中国专利 :CN118675973A ,2024-09-20

[5]

等离子体刻蚀设备 [P].

王晶 ;

李谦 .

中国专利 :CN202633210U ,2012-12-26

[6]

等离子体刻蚀设备 [P].

郑锦华 ;

王俊杰 ;

廖晓燕 ;

吴双 ;

魏新煦 .

中国专利 :CN105118767A ,2015-12-02

[7]

等离子体刻蚀设备 [P].

赵馗 ;

王奕善 ;

倪图强 .

中国专利 :CN214152845U ,2021-09-07

[8]

一种等离子体刻蚀夹具 [P].

刘权辉 ;

周超 .

中国专利 :CN210006750U ,2020-01-31

[9]

等离子体刻蚀机台 [P].

张海洋 ;

张城龙 .

中国专利 :CN203895414U ,2014-10-22

[10]

等离子体刻蚀机 [P].

刘波 ;

单书珊 ;

乔彦彬 ;

李建强 ;

陈燕宁 ;

张海峰 .

中国专利 :CN208444807U ,2019-01-29

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