光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510107561.2

申请日：

2005-09-29

公开(公告)号：

CN1755519B

公开(公告)日：

2006-04-05

发明(设计)人：

田边胜川口厚赤川裕之河原明宏

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F114

IPC分类号：

G03F720 H01L21027

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

刘志平

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-04-05	公开	公开
2010-08-11	授权	授权
2007-09-19	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法 [P].

田边胜 ;

川口厚 ;

赤川裕之 ;

河原明宏 .

中国专利 :CN101813883A ,2010-08-25

[2]

光刻掩模制造 [P].

P·－Y·严 .

中国专利 :CN1656424A ,2005-08-17

[3]

光刻掩模版 [P].

官锡俊 .

中国专利 :CN108535953B ,2018-09-14

[4]

曝光掩模以及利用曝光掩模的半导体制造方法 [P].

马原光 ;

严泰胜 .

中国专利 :CN101614952A ,2009-12-30

[5]

检查掩模图案、制造掩模以及制造半导体装置的方法 [P].

松浦诚司 .

中国专利 :CN108375873A ,2018-08-07

[6]

光刻掩模版以及掩模版图案成型方法 [P].

孟祥鹏 ;

孙延涛 ;

陈庆煌 ;

刘志成 .

中国专利 :CN113156760A ,2021-07-23

[7]

无掩模版光刻设备和无掩模版光刻的方法 [P].

杨保平 .

中国专利 :CN115113491A ,2022-09-27

[8]

掩模基板信息生成方法和曝光掩模的制造方法 [P].

伊藤正光 .

中国专利 :CN1664697B ,2005-09-07

[9]

光掩模，制造光掩模的方法以及使用其的光刻方法和系统 [P].

许圣民 ;

金熙范 ;

李东根 ;

全爘旭 .

中国专利 :CN1881086A ,2006-12-20

[10]

半导体光刻的掩模的检验装置和方法 [P].

H.塞茨 ;

T.佐伊纳 ;

H.费尔德曼 .

中国专利 :CN109240039A ,2019-01-18

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