光掩模，制造光掩模的方法以及使用其的光刻方法和系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610092512.0

申请日：

2006-06-15

公开(公告)号：

CN1881086A

公开(公告)日：

2006-12-20

发明(设计)人：

许圣民金熙范李东根全爘旭

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

G03F714

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

林宇清;谢丽娜

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-07-23	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-03-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101077487982 IPC(主分类):G03F 7/14 专利申请号:2006100925120 公开日:20061220
2006-12-20	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法 [P].

田边胜 ;

川口厚 ;

赤川裕之 ;

河原明宏 .

中国专利 :CN101813883A ,2010-08-25

[2]

光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法 [P].

田边胜 ;

川口厚 ;

赤川裕之 ;

河原明宏 .

中国专利 :CN1755519B ,2006-04-05

[3]

制备光掩模数据及制造光掩模的方法 [P].

余志如 ;

冯妍 ;

张林 ;

彭丹平 .

中国专利 :CN115561962A ,2023-01-03

[4]

光掩模和设计、制作与检查光掩模的方法 [P].

杰德·H·兰金 ;

安德鲁·J·沃茨 .

中国专利 :CN101171584B ,2008-04-30

[5]

无掩模版光刻设备和无掩模版光刻的方法 [P].

杨保平 .

中国专利 :CN115113491A ,2022-09-27

[6]

用于制造集成电路的光掩模和方法 [P].

林俊羽 ;

陈奕杰 ;

邱丰源 ;

郑英周 ;

吕奎亮 ;

张雅惠 ;

刘如淦 ;

高蔡胜 .

中国专利 :CN105988283A ,2016-10-05

[7]

光掩模清洗方法 [P].

金正培 .

中国专利 :CN101620372A ,2010-01-06

[8]

光刻光掩模、对准方法和检验对准精确度的方法 [P].

范直琛 ;

陈立伟 ;

宋易瑾 ;

王法程 .

中国专利 :CN101713912B ,2010-05-26

[9]

用于无掩模直写光刻的系统和方法 [P].

吴政机 ;

杨政宪 ;

王文娟 ;

林世杰 .

中国专利 :CN105809720A ,2016-07-27

[10]

用于DUV光刻的光掩模版结构及其制备方法 [P].

季明华 ;

任新平 ;

黄早红 .

中国专利 :CN114895522A ,2022-08-12

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