光掩模清洗方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810115965.X

申请日：

2008-06-30

公开(公告)号：

CN101620372A

公开(公告)日：

2010-01-06

发明(设计)人：

金正培

申请人：

申请人地址：

100176北京市经济技术开发区文昌大道18号

IPC主分类号：

G03F100

IPC分类号：

B08B300 B08B1100 H01L2100

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

李丽

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-03-03	实质审查的生效	实质审查的生效
2013-08-21	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回申请公布日:20100106 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101652054833 IPC(主分类):G03F 1/00 专利申请号:200810115965X
2010-01-06	公开	公开

共 50 条

[1]

清洗掩模版的方法 [P].

刘戈炜 ;

赵蓓 .

中国专利 :CN101566787A ,2009-10-28

[2]

光掩模、光掩模坯、半导体器件的制造方法 [P].

郑珉交 ;

金星润 ;

孙晟熏 ;

申仁均 ;

崔石荣 ;

金修衒 ;

金圭勋 ;

李亨周 .

韩国专利 :CN115268208B ,2025-10-28

[3]

光掩模和设计、制作与检查光掩模的方法 [P].

杰德·H·兰金 ;

安德鲁·J·沃茨 .

中国专利 :CN101171584B ,2008-04-30

[4]

制备光掩模数据及制造光掩模的方法 [P].

余志如 ;

冯妍 ;

张林 ;

彭丹平 .

中国专利 :CN115561962A ,2023-01-03

[5]

光掩模盒 [P].

吹田文吾 ;

向井干人 .

中国专利 :CN304073662S ,2017-03-15

[6]

光掩模，制造光掩模的方法以及使用其的光刻方法和系统 [P].

许圣民 ;

金熙范 ;

李东根 ;

全爘旭 .

中国专利 :CN1881086A ,2006-12-20

[7]

共乘光掩模的设计方法 [P].

孙家祯 ;

刘恩铨 .

中国专利 :CN118210195A ,2024-06-18

[8]

一种光掩模版及提高光掩模版显影均匀性的方法 [P].

郭晨悦 ;

薛丽霞 ;

王怡鑫 ;

侯斌 ;

薛芫昕 ;

胡长青 .

中国专利 :CN118550152A ,2024-08-27

[9]

光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法 [P].

L·麦克金 ;

J·科布森 ;

A·H·J·坎普赫尤斯 .

中国专利 :CN111880376A ,2020-11-03

[10]

光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法 [P].

L·麦克金 ;

J·科布森 ;

A·H·J·坎普赫尤斯 .

美国专利 :CN111880376B ,2025-02-21

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