用于无掩模直写光刻的系统和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510434808.5

申请日：

2015-07-22

公开(公告)号：

CN105809720A

公开(公告)日：

2016-07-27

发明(设计)人：

吴政机杨政宪王文娟林世杰

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹

IPC主分类号：

G06T900

IPC分类号：

代理机构：

北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409

代理人：

章社杲;李伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-07-27	公开	公开
2016-08-24	实质审查的生效	实质审查的生效申请日:20150722 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101675836179 IPC(主分类):G06T 9/00 专利申请号:2015104348085
2019-09-06	授权	授权

共 50 条

[1]

无掩模光刻的剥离方法 [P].

王宏钧 ;

林子钦 ;

郑年富 ;

陈政宏 ;

黄文俊 ;

刘如淦 .

中国专利 :CN102983068B ,2013-03-20

[2]

光掩模，制造光掩模的方法以及使用其的光刻方法和系统 [P].

许圣民 ;

金熙范 ;

李东根 ;

全爘旭 .

中国专利 :CN1881086A ,2006-12-20

[3]

用于电子束直写光刻的设计方法 [P].

鲁立忠 ;

郑仪侃 ;

刘如淦 ;

赖志明 .

中国专利 :CN101826453A ,2010-09-08

[4]

光刻方法和用于实现此方法的光刻系统 [P].

金政会 ;

吉明君 ;

权元泽 ;

金光哲 .

中国专利 :CN1151034A ,1997-06-04

[5]

用于光刻对准的系统和方法 [P].

林育贤 ;

谢弘璋 ;

许峰嘉 ;

李俊毅 .

中国专利 :CN103913960A ,2014-07-09

[6]

相移光刻掩模的设计和布局 [P].

米歇尔·L·科特 ;

克里斯托夫·皮拉特 .

中国专利 :CN101726988B ,2010-06-09

[7]

相移光刻掩模的设计和布局 [P].

米歇尔·L·科特 ;

克里斯托夫·皮拉特 .

中国专利 :CN1524199A ,2004-08-25

[8]

用于光刻图案化的系统和方法 [P].

陈立锐 ;

梁辅杰 ;

吴雪鸿 .

中国专利 :CN103293869B ,2013-09-11

[9]

用于光刻的掩模数据处理方法及设备 [P].

张瑾轩 .

中国专利 :CN120993686A ,2025-11-21

[10]

用于光刻的掩模数据处理方法及设备 [P].

张瑾轩 .

中国专利 :CN121209212A ,2025-12-26

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