掩模基板信息生成方法和曝光掩模的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510056073.3

申请日：

2002-05-31

公开(公告)号：

CN1664697B

公开(公告)日：

2005-09-07

发明(设计)人：

伊藤正光

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F138

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人：

岳耀锋

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法 [P].

田边胜 ;

川口厚 ;

赤川裕之 ;

河原明宏 .

中国专利 :CN101813883A ,2010-08-25

[2]

光刻掩模基板,光刻掩模,曝光掩模,光刻掩模基板制造方法,以及半导体装置制造方法 [P].

田边胜 ;

川口厚 ;

赤川裕之 ;

河原明宏 .

中国专利 :CN1755519B ,2006-04-05

[3]

曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1637594A ,2005-07-13

[4]

曝光掩模的制造方法及其应用 [P].

伊藤正光 .

中国专利 :CN1389902A ,2003-01-08

[5]

投影曝光装置和方法、光掩模以及基板的制造方法 [P].

中泽朗 .

中国专利 :CN105388708B ,2016-03-09

[6]

掩模坯料及其透明基片的制造方法,曝光掩模的制造方法 [P].

田边胜 .

中国专利 :CN1862376A ,2006-11-15

[7]

曝光装置用光照射装置、曝光装置、曝光方法、基板制造方法、掩模和被曝光基板 [P].

川岛洋德 ;

桥永宙 ;

富樫工 ;

松坂昌明 .

中国专利 :CN102449552A ,2012-05-09

[8]

光掩模和光掩模的制造方法 [P].

山口昇 .

中国专利 :CN110147029B ,2019-08-20

[9]

掩模板用基板、掩模板、光掩模和半导体器件的制造方法 [P].

田边胜 .

中国专利 :CN102132211A ,2011-07-20

[10]

使用曝光掩模的曝光方法 [P].

李树雄 ;

白尚润 .

中国专利 :CN1979344B ,2007-06-13

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-03	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 1/38 变更事项:专利权人变更前:东芝存储器株式会社变更后:铠侠股份有限公司变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本东京
2017-08-18	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101757273086 IPC(主分类):G03F 1/38 专利号:ZL2005100560733 登记生效日:20170728 变更事项:专利权人变更前权利人:株式会社东芝变更后权利人:东芝存储器株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京
2005-09-07	公开	公开
2022-06-17	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):G03F 1/38 申请日:20020531 授权公告日:20120620
2021-12-03	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):G03F 1/38 登记生效日:20211119 变更事项:专利权人变更前权利人:东芝存储器株式会社变更后权利人:日商潘杰亚股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本东京变更后权利人:日本东京
2005-11-02	实质审查的生效	实质审查的生效
2012-06-20	授权	授权
2021-12-03	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 1/38 变更事项:专利权人变更前:日商潘杰亚股份有限公司变更后:东芝存储器株式会社变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本东京