气体供给部及基板处理装置

被引：0

申请号：

CN202090000433.6

申请日：

2020-02-21

公开(公告)号：

CN218299750U

公开(公告)日：

2023-01-13

发明(设计)人：

藏田智之森田慎也平野敦士村田慧冈田裕巳

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2131

IPC分类号：

C23C16455

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

陈伟;刘伟志

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-13	授权	授权

共 50 条

[1]

气体供给装置及基板处理装置 [P].

五味久 ;

齐藤哲也 ;

挂川崇 ;

间瀬贵久 ;

小泉真 ;

多田国弘 ;

若林哲 ;

成嶋健索 ;

方成 .

中国专利 :CN1958170A ,2007-05-09

[2]

气体供给装置、基板处理装置以及气体供给方法 [P].

水泽兼悦 .

中国专利 :CN100514552C ,2007-08-08

[3]

气体供给装置、基板处理装置和气体供给方法 [P].

水泽兼悦 .

中国专利 :CN101017771A ,2007-08-15

[4]

气体供给装置、基板处理装置及供给气体设定方法 [P].

水泽兼悦 ;

伊藤惠贵 ;

伊藤昌秀 .

中国专利 :CN100390933C ,2006-06-14

[5]

气体供给装置、基板处理装置和基板处理方法 [P].

益田法生 .

中国专利 :CN101425450B ,2009-05-06

[6]

基板处理装置、气体供给装置和基板处理方法 [P].

益田法生 .

中国专利 :CN100524612C ,2008-03-05

[7]

气体供给装置和基板处理装置 [P].

内田阳平 .

中国专利 :CN104205309B ,2014-12-10

[8]

基板处理装置用气体供给喷管 [P].

藤野敏树 ;

藤井优磨 ;

野野村一树 ;

马场美德 ;

竹林雄二 ;

寿崎健一 .

中国专利 :CN303980052S ,2016-12-21

[9]

基板处理装置用气体供给喷管 [P].

藤野敏树 ;

高木康祐 ;

笹岛亮太 .

中国专利 :CN303969774S ,2016-12-14

[10]

基板处理装置用气体供给喷管 [P].

冈嶋优作 ;

加贺谷彻 ;

平松宏朗 ;

江端慎也 .

中国专利 :CN304839985S ,2018-10-02

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