夹具及等离子体沉积设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201721829598.0
申请日
2017-12-25
公开(公告)号
CN207727149U
公开(公告)日
2018-08-14
发明(设计)人
张志强 张二辉 丁伟
申请人
申请人地址
200241 上海市闵行区东川路555号戊楼4026室
IPC主分类号
C23C16513
IPC分类号
C23C16458
代理机构
上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291
代理人
杨楷;毛立群
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体沉积用夹具 [P]. 
董海青 ;
申鹏 .
中国专利 :CN211522316U ,2020-09-18
[2]
等离子体装置和等离子体沉积设备 [P]. 
李翔 ;
种展鹏 ;
袁红霞 ;
王娟 ;
姚俊 .
中国专利 :CN119943637B ,2025-11-04
[3]
等离子体装置和等离子体沉积设备 [P]. 
李翔 ;
种展鹏 ;
袁红霞 ;
王娟 ;
姚俊 .
中国专利 :CN119943637A ,2025-05-06
[4]
等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P]. 
山本薰 ;
金昌炫 ;
宋伣在 ;
申建旭 ;
申铉振 ;
安星柱 ;
李章熙 ;
李昌锡 ;
全基荣 ;
郑根吾 .
中国专利 :CN110880447A ,2020-03-13
[5]
等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P]. 
山本薰 ;
金昌炫 ;
宋伣在 ;
申建旭 ;
申铉振 ;
安星柱 ;
李章熙 ;
李昌锡 ;
全基荣 ;
郑根吾 .
韩国专利 :CN110880447B ,2024-04-09
[6]
平板电极结构和等离子体沉积设备 [P]. 
孙溯 ;
张志强 ;
谢小兵 .
中国专利 :CN207418862U ,2018-05-29
[7]
等离子体沉积设备 [P]. 
斯蒂芬·理查德·库尔森 ;
查尔斯·埃德蒙·金 .
中国专利 :CN101743071A ,2010-06-16
[8]
等离子体气相沉积镀膜设备 [P]. 
黄章华 .
中国专利 :CN216192696U ,2022-04-05
[9]
压力控制系统和等离子体沉积设备 [P]. 
唐玄玄 ;
张志强 ;
张二辉 .
中国专利 :CN207793425U ,2018-08-31
[10]
等离子体沉积装置 [P]. 
孟杰 ;
胡广严 ;
吴孝哲 ;
吴龙江 ;
林宗贤 .
中国专利 :CN208949405U ,2019-06-07