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一种利用复合磨料抛光垫的半导体硅片抛光装置
被引:0
申请号
:
CN202222538582.1
申请日
:
2022-09-24
公开(公告)号
:
CN218110403U
公开(公告)日
:
2022-12-23
发明(设计)人
:
李文明
龙科
申请人
:
申请人地址
:
518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田社区祝龙田北路8号劲拓高新技术中心三单元13层
IPC主分类号
:
B24B3726
IPC分类号
:
B24B3724
B24B3710
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-12-23
授权
授权
共 50 条
[1]
一种半导体硅片用抛光装置
[P].
李文明
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0
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李文明
;
龙科
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龙科
.
中国专利
:CN218461836U
,2023-02-10
[2]
半导体硅片双面同步抛光装置
[P].
寇珑璠
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机构:
郑州龙达磨料磨具有限公司
郑州龙达磨料磨具有限公司
寇珑璠
;
寇世尧
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机构:
郑州龙达磨料磨具有限公司
郑州龙达磨料磨具有限公司
寇世尧
;
马向宁
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机构:
郑州龙达磨料磨具有限公司
郑州龙达磨料磨具有限公司
马向宁
.
中国专利
:CN222570322U
,2025-03-07
[3]
半导体抛光垫
[P].
阚开乐
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机构:
深圳市鑫德普科技有限公司
深圳市鑫德普科技有限公司
阚开乐
.
中国专利
:CN308980416S
,2024-12-03
[4]
一种半导体硅片抛光机
[P].
不公告发明人
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0
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不公告发明人
.
中国专利
:CN111941267A
,2020-11-17
[5]
半导体基材的抛光垫
[P].
斯利拉姆·P·安朱
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斯利拉姆·P·安朱
;
罗兰·K·塞维拉
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罗兰·K·塞维拉
;
弗兰克·B·考夫曼
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弗兰克·B·考夫曼
.
中国专利
:CN1316940A
,2001-10-10
[6]
半导体基材的抛光垫
[P].
斯利拉姆·P·安朱
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斯利拉姆·P·安朱
;
威廉·C·唐宁
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威廉·C·唐宁
.
中国专利
:CN1316939A
,2001-10-10
[7]
用于抛光半导体基材的软性抛光垫
[P].
W·阿利森
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W·阿利森
;
D·斯科特
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D·斯科特
;
R·科普里希
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R·科普里希
;
P·黄
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P·黄
;
R·弗伦泽尔
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R·弗伦泽尔
.
中国专利
:CN103097080A
,2013-05-08
[8]
抛光垫及抛光半导体晶片的方法
[P].
青井裕美
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青井裕美
;
志保浩司
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志保浩司
;
长谷川亨
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长谷川亨
;
川桥信夫
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川桥信夫
.
中国专利
:CN1569398A
,2005-01-26
[9]
抛光垫以及抛光半导体晶片的方法
[P].
J·施万德纳
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J·施万德纳
;
R·柯普尔特
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R·柯普尔特
.
中国专利
:CN101927455B
,2010-12-29
[10]
一种半导体抛光用抛光垫削边装置
[P].
宋志强
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宋志强
;
刘兴达
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刘兴达
;
柯尊斌
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柯尊斌
;
王卿伟
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王卿伟
.
中国专利
:CN217256577U
,2022-08-23
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