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一种半导体硅片用抛光装置
被引:0
申请号
:
CN202222600390.9
申请日
:
2022-09-30
公开(公告)号
:
CN218461836U
公开(公告)日
:
2023-02-10
发明(设计)人
:
李文明
龙科
申请人
:
申请人地址
:
518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田社区祝龙田北路8号劲拓高新技术中心三单元13层
IPC主分类号
:
B24B2902
IPC分类号
:
B24B2700
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2023-02-10
授权
授权
共 50 条
[1]
一种半导体生产用硅片抛光装置
[P].
曹福斌
论文数:
0
引用数:
0
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0
曹福斌
.
中国专利
:CN214956761U
,2021-11-30
[2]
一种利用复合磨料抛光垫的半导体硅片抛光装置
[P].
李文明
论文数:
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0
李文明
;
龙科
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龙科
.
中国专利
:CN218110403U
,2022-12-23
[3]
半导体硅片双面同步抛光装置
[P].
寇珑璠
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机构:
郑州龙达磨料磨具有限公司
郑州龙达磨料磨具有限公司
寇珑璠
;
寇世尧
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机构:
郑州龙达磨料磨具有限公司
郑州龙达磨料磨具有限公司
寇世尧
;
马向宁
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机构:
郑州龙达磨料磨具有限公司
郑州龙达磨料磨具有限公司
马向宁
.
中国专利
:CN222570322U
,2025-03-07
[4]
一种夹持工装及半导体硅片加工抛光装置
[P].
尚明阳
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机构:
江苏芯诺半导体科技有限公司
江苏芯诺半导体科技有限公司
尚明阳
;
王国辉
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机构:
江苏芯诺半导体科技有限公司
江苏芯诺半导体科技有限公司
王国辉
;
许建光
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机构:
江苏芯诺半导体科技有限公司
江苏芯诺半导体科技有限公司
许建光
.
中国专利
:CN220408297U
,2024-01-30
[5]
一种半导体硅片抛光机
[P].
刘超超
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刘超超
;
高娟
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高娟
.
中国专利
:CN216066934U
,2022-03-18
[6]
一种半导体硅片电泳装置
[P].
祝凯
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祝凯
;
吾超凤
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吾超凤
;
王雅妹
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王雅妹
.
中国专利
:CN214529283U
,2021-10-29
[7]
一种半导体硅片干燥装置
[P].
郑森平
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郑森平
;
江水德
论文数:
0
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江水德
.
中国专利
:CN209763670U
,2019-12-10
[8]
一种半导体硅片用清洗装置
[P].
余涛
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余涛
;
朴灵绪
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朴灵绪
;
郭巍
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郭巍
.
中国专利
:CN213826091U
,2021-07-30
[9]
半导体样品引线用抛光装置
[P].
汪良恩
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机构:
安徽安美半导体有限公司
安徽安美半导体有限公司
汪良恩
;
杨华
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机构:
安徽安美半导体有限公司
安徽安美半导体有限公司
杨华
;
朱京江
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机构:
安徽安美半导体有限公司
安徽安美半导体有限公司
朱京江
;
陆安
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机构:
安徽安美半导体有限公司
安徽安美半导体有限公司
陆安
.
中国专利
:CN222553123U
,2025-03-04
[10]
一种半导体双面抛光装置
[P].
郭炳熙
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郭炳熙
;
王国超
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王国超
;
孙美玉
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孙美玉
.
中国专利
:CN218194438U
,2023-01-03
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